[发明专利]半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁

权利要求书

1.一种清洁处理元件的装置，包含：

具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件；以及

喷管组件，该喷管组件能够向该处理元件的表面供应声波能量化的流体。

2.根据权利要求1所述的装置，其中该喷管组件包括喷嘴部分，该喷嘴部分能够产生声波能量并将该声波能量应用于沿着该喷嘴部分的通路运动的流体以提供该声波能量化的流体。

3.根据权利要求1所述的装置，其中该喷管组件包括耦合于喷嘴部分的主体部分，该传感器主体部分能够产生声波能量并将该声波能量应用于沿着该传感器本体部分的通路运动的流体以在该喷嘴部分提供该声波能量化的流体。

4.根据权利要求1所述的装置，其中该声波能量化的流体是从具有600KHz到2MHz频率的兆声能量的应用提供的。

5.根据权利要求1所述的装置，其中该声波能量化的流体包括去离子水。

6.根据权利要求1所述的装置，其中该声波能量化的流体包括含水碱溶液、含水酸溶液、中性表面活性剂溶液、酸性表面活性剂溶液、碱性表面活性剂溶液、含水表面活性剂溶液或有机溶剂和水的混合物。