[发明专利]坩埚及具有该坩埚的蒸镀设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种坩埚及具有该坩埚的蒸镀设备，尤其涉及一种盛放柱状膜料且可以连续更新膜料的坩埚及具有该坩埚的蒸镀设备。

背景技术

光学薄膜一般采用蒸镀法(Evaporation Deposition)、离子辅助蒸镀法(IonAssisted deposition，IAD)或离子溅镀法(Ion Beam Sputtering Deposition，IBSD)进行镀制。

离子辅助蒸镀具有独立的离子源，安装简单，对原系统的影响低，且离子束的范围大，分布均匀，拥有良好的动能，可以较轻易地将膜层压紧，得到附着力良好的膜层等优点，其采用程度较高。离子辅助蒸镀系统通常利用金属坩埚来盛放颗粒状膜料，并利用电子枪产生的高能电子束对盛放于坩埚内的颗粒状膜料进行加热，使颗粒状膜料受热蒸发附着于镀膜表面形成所需的膜层。

但是，利用传统的坩埚盛放颗粒状的膜料进行蒸镀加工时，易存在如下问题：其一，经过一段时间的蒸镀加工使得坩埚内的膜料被消耗完一部分后，膜料表面将会因蒸发而产生大小不一的坑洞，通常需要人工进行重新平整并加料，以尽量使坩埚内的膜料表面与坩埚的开口相平，便于膜料在受热过程中蒸发，由此，将耗费较多的人力及工时以进行膜料的更新。其二，传统坩埚盛放的颗粒状膜料中膜料一般大小不一，加热时易因不同颗粒之间受热不均而造成膜料蒸发速率不一致，影响膜层形成的质量。其三，频繁地进行人工加料更新时，易使颗粒状的膜料中混杂一些杂质，当这些杂质受热蒸发而附着于镀膜表面时，极易影响镀膜表面所需膜层的品质。其四，采用传统的坩埚盛放颗粒状的膜料镀制多层膜时，需要人工反复平整并加料，由此需要反复地对蒸镀腔进行破真空与抽真空的操作，直接造成加工工时的浪费，而且频繁地破真空与抽真空，较易影响真空泵的寿命及工作效率。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种易于实现的、可有效解决现有技术中存在的问题的坩埚及具有该坩埚的蒸镀设备。

一种坩埚包括一个主体，一个顶杆，及一个驱动器。所述主体具有一个用于盛放柱状蒸镀膜料的收容孔，所述收容孔的底部开设有一个顶杆孔，所述顶杆孔与所述收容孔相贯通。所述顶杆设置于所述收容孔的底部且与所述顶杆孔相配合。所述驱动器与所述顶杆相连接，所述驱动器驱动所述顶杆沿所述顶杆孔朝向或背离所述收容孔运动，使得盛放于所述收容孔内的柱状膜料相对于所述收容孔的底部被所述顶杆升起或降低。

一种蒸镀设备，所述蒸镀膜设备包括腔体及设置在所述腔体内的坩埚。所述坩埚包括一个主体，一个顶杆，及一个驱动器。所述主体具有一个用于盛放柱状蒸镀膜料的收容孔，所述收容孔的底部开设有一个顶杆孔，所述顶杆孔与所述收容孔相贯通。所述顶杆设置于所述收容孔的底部且与所述顶杆孔相配合。所述驱动器与所述顶杆相连接，所述驱动器驱动所述顶杆沿所述顶杆孔朝向或背离所述收容孔运动，使得盛放于所述收容孔内的柱状膜料相对于所述收容孔的底部被所述顶杆升起或降低。

相对于现有技术，本发明的坩埚具有如下优点：其一，所述坩埚利用驱动器驱动顶杆来升降盛放于坩埚内的柱状膜料，由此，对消耗完一部分的膜料的表面进行平整后，可以通过控制驱动器自动使坩埚内的膜料表面与坩埚的开口相平，而无需通过人工进行膜料更新。其二，所述坩埚盛放柱状膜料进行蒸镀加工，可较好的避免加热时因受热不均而造成膜料蒸发速率不一致，影响膜层形成的质量。其三，采用所述坩埚盛放柱状膜料进行蒸镀加工时，可以持续进行多次膜料更新，无需频繁地进行人工加料更新，可避免使膜料混杂杂质，确保镀膜表面所需膜层的品质。其四，采用所述坩埚盛放柱状的膜料镀制多层膜时，无需人工反复平整并加料，由此可避免反复地对蒸镀腔进行破真空与抽真空的操作，节省了相应的工时，而且可以避免因频繁地破真空与抽真空而影响真空泵的寿命及工作效率。其五，采用具有所述坩埚的蒸镀设备进行蒸镀加工，有利于实现镀膜加工的自动化或半自动化操作，有利于提高蒸镀效率。

附图说明

图1是本发明第一实施例提供的坩埚的示意图，所述坩埚包括一个主体。

图2是图1所示的坩埚的分解示意图。

图3是图1所示的坩埚的剖视图。

图4是图1所示的坩埚盛放柱状膜料的示意图。

图5是本发明第二实施例提供的具有图1所示的坩埚的蒸镀设备的示意图。

主要元件符号说明

主体            10

环形盖体        11

基体            13

螺钉            17

外部冷却管      19