[发明专利]玻璃基板蚀刻液及其制备方法

说明书

技术领域

本发明属于平板显示领域，特别是涉及一种玻璃基板蚀刻液及其制备方法。

背景技术

在平板显示领域中，包括等液晶显示(LCD)、触摸屏(TP)、离子体显示(PDP)及有机电致发光(OLED)等制备工艺过程中，由于玻璃基板生产工艺的限制，为了进一步减轻显示器件的重量，生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。

通常使用的减薄方法有两种，一种是物理方法，即使用抛光粉进行抛光研磨，这种方法减薄时间长，精度不好控制，产品良率低；另一种方法为化学蚀刻法，这种方法减薄时间短，设备投入小，产品良率高，且减薄液的成分简单成本低，逐渐成为了玻璃基板减薄的主流技术方法。

目前，大多生产厂家用化学方法进行减薄时所采用的减薄液，基本都以氢氟酸为主要成分，还有一些厂家再辅助加入其它强酸。当蚀刻液中存在氢氟酸时会存在以下问题：1、氢氟酸的毒性大、容易挥发，尤其是在配置时需要采用较高温度和浓度，不仅生产过程中危险性高，而且会对环境造成巨大污染；2、蚀刻产生的副产物容易吸附在玻璃、设备和管道表面，造成产品表面处理效果差、管道阻塞等问题，影响到良品率；3、生产过程中蚀刻速率不稳定，蚀刻液的利用率相对较低，由此还会造成废液处理量大，处理成本也随之增高。因而，亟待研制一种新型的平板显示用玻璃基板蚀刻液。

发明内容

本发明的目的是提供一种玻璃基板蚀刻液及其制备方法。

本发明提供的玻璃蚀刻液，是由氟化铵、强酸、水和氨基三乙酸组成。

上述平板玻璃蚀刻液中，所述氟化铵、强酸和氨基三乙酸占所述蚀刻液总重的百分比分别为：5-20％、20-60％和1-8％；余量为水。该蚀刻液具体可为下述蚀刻液a-蚀刻液e中的任意一种：

由5-20％重量百分比的氟化铵、20-50％重量百分比的硫酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和30-74％重量百分比的水组成的蚀刻液a；

由5-15％重量百分比的氟化铵、20-50％重量百分比的硫酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和30-74％重量百分比的水组成的蚀刻液b；

由5-10％重量百分比的氟化铵、20-50％重量百分比的硫酸、1-5％重量百分比的氨基三乙酸和39-74％重量百分比的水组成的蚀刻液c；

由5-20％重量百分比的氟化铵、20-40％重量百分比的硫酸、10-35％重量百分比的硝酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和24-59％重量百分比的水组成的蚀刻液d；

由5-15％重量百分比的氟化铵、25-35％重量百分比的硫酸、10-35％重量百分比的硝酸、1-8％重量百分比的氨基三乙酸和24-59％重量百分比的水组成的蚀刻液e。

所述氟化铵的结构式为NH₄F。各种强酸均适用，优选硫酸和/或硝酸以任意比例混合的混合物。所述强酸为硫酸和硝酸的混合物时，硫酸和硝酸的重量份数比为25-40∶10-35。

本发明提供的制备该玻璃蚀刻液的方法，是将氟化铵、强酸、水和氨基三乙酸在20～30℃混匀，得到所述玻璃蚀刻液。

另外，该玻璃蚀刻液在制备平板玻璃基板减薄用蚀刻液中的应用，也属于本发明的保护范围。

本发明提供的平板玻璃减薄用蚀刻液，采用氟化铵、强酸和水作为基本成分，并加入金属鳌合剂氨基三乙酸(Nitrilotriacetic acid，简称NTA)。由于氟化铵具有不易挥发、毒性小的特点；NTA的特点是能够与蚀刻时产生的金属离子形成螯合物，更加容易被水溶解且具有很强的生物可分解性，该蚀刻液是一种安全、稳定、高效的蚀刻液，能够很好的解决蚀刻过程中产生的难溶性副产物问题，同时也提高了蚀刻速率和蚀刻效果。该蚀刻液适用于TFT玻璃基板的减薄，以及液晶显示(LCD)(具体包括扭曲向列型(TN)、超扭曲向列型(STN)和彩色超扭曲向列型(CSTN))、触摸屏(TP)、等离子体(PDP)及有机电致发光(OLED)显示用玻璃基板的减薄。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步说明，但本发明并不限于以下实施例。下述实施例中所述方法如无特别说明，均为常规方法。

实施例1、

将如下重量百分比的各组分在20～30℃(室温)搅拌均匀，得到本发明提供的平板玻璃减薄用蚀刻液：氟化铵5％、硫酸20％、NTA1％、纯水74％。

对该平板玻璃减薄用蚀刻液的蚀刻性能按照下述方法进行测定：