[发明专利]盘表面缺陷检查方法以及装置无效
申请号: | 201010145148.6 | 申请日: | 2010-03-22 |
公开(公告)号: | CN101852742A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 比纳杜尔拉希德·法利斯;谷中优;加藤启仁;石黑隆之;芹川滋 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G01N21/88 | 分类号: | G01N21/88;G01N21/49 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 缺陷 检查 方法 以及 装置 | ||
1.一种盘表面缺陷检查方法,其特征在于,
包括以下步骤:
从斜方向对旋转的盘表面照射激光的步骤;
检测来自微小的凹凸缺陷的低角度散射光的强度和高角度散射光的强度的步骤;
在所述低角度散射光的强度和高角度散射光的强度的比率一定的情况下,判断为微小的凸状缺陷的步骤;以及
在所述低角度散射光的强度和高角度散射光的强度的比率变化的情况下,判断为微小的凹状缺陷的步骤。
2.根据权利要求1所述的盘表面缺陷检查方法,其特征在于,
所述微小的凹状缺陷的深度为约1μm左右,所述微小的凸状缺陷的高度为约1μm左右。
3.根据权利要求1所述的盘表面缺陷检查方法,其特征在于,
所述低角度散射光的强度和高角度散射光的强度的比率变化的情况,是所述高角度散射光的强度相对于所述低角度散射光的强度降低的状态。
4.根据权利要求1所述的盘表面缺陷检查方法,其特征在于,
所述盘是磁盘,是形成磁性层之前的盘。
5.根据权利要求1所述的盘表面缺陷检查方法,其特征在于,
所述低角度散射光是以相对于所述盘表面垂直的反射轴为基准,以比所述高角度散射光小的角度来散射的光。
6.一种盘表面缺陷检查装置,其特征在于,包括:
激光光源,其从斜方向对旋转的盘表面照射激光;
第1低角度散射光受光器,其接受来自所述盘表面的散射光;
第2低角度散射光受光器,其接受来自所述盘表面的散射光,与所述第1低角度散射光受光器相比灵敏度低;
第1高角度散射光受光器,其接受来自所述盘表面的散射光;
第2高角度散射光受光器,其接受来自所述盘表面的散射光,与所述第1高角度散射光受光器相比灵敏度低;以及
控制器,其求出所述第2低角度散射光受光器的输出和所述第2高角度散射光受光器的输出的比率,在所述第2低角度散射光受光器的输出和所述第2高角度散射光受光器的输出的比率一定的情况下,判断为微小的凸状缺陷,在所述第2低角度散射光受光器的输出和所述第2高角度散射光受光器的输出的比率变化的情况下,判断为微小的凹状缺陷。
7.根据权利要求6所述的盘表面缺陷检查装置,其特征在于,
所述微小的凹状缺陷的深度为约1μm左右,所述微小的凸状缺陷的高度为约1μm左右。
8.根据权利要求6所述的盘表面缺陷检查装置,其特征在于,
所述第2低角度散射光受光器的输出和所述第2高角度散射光受光器的输出的比率变化的情况,是所述第2高角度散射光受光器的输出强度相对于所述第2低角度散射光受光器的输出强度降低的状态。
9.根据权利要求6所述的盘表面缺陷检查装置,其特征在于,
所述第2低角度散射光受光器,对来自所述盘表面的约1μm左右的凹凸缺陷的散射光具有灵敏度特性;所述第2高角度散射光受光器,对来自所述盘表面的约1μm左右的凹凸缺陷的散射光具有灵敏度特性。
10.根据权利要求6所述的盘表面缺陷检查装置,其特征在于,
以相对于所述盘表面垂直的反射轴为基准,在成为比所述高角度散射光受光器小的角度的位置配置所述低角度散射光受光器。
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