[发明专利]切割带集成晶片背面保护膜有效

专利信息
申请号: 201010106032.1 申请日: 2010-01-29
公开(公告)号: CN101794722A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 高本尚英 申请(专利权)人: 日本电工株式会社
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68;H01L21/78;H01L21/304;H01L21/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 切割 集成 晶片 背面 保护膜
【说明书】:

技术领域

本发明涉及切割带集成晶片背面保护膜(dicing tape-integrated wafer back surface protective film)。切割带集成 晶片背面保护膜用于保护芯片形工件(如半导体芯片)的背面和 增强强度。此外,本发明涉及使用所述切割带集成晶片背面保 护膜的半导体器件和生产所述器件的方法。

背景技术

最近,日益要求半导体器件及其包装的变薄和小型化。因 此,作为半导体器件及其包装,已广泛利用以半导体芯片的电 路面与基板的电极形成面相对的形式将半导体芯片(芯片形工 件)固定至基板的那些(通过倒装芯片接合生产的半导体器件; 可将其称为倒装芯片安装的半导体器件)。在该类半导体器件等 中,在一些情况下半导体芯片(芯片形工件)的背面用保护膜保 护,以防止损害半导体芯片(例如,参见专利文献1至10)。

专利文献1:JP-A-2008-166451

专利文献2:JP-A-2008-006386

专利文献3:JP-A-2007-261035

专利文献4:JP-A-2007-250970

专利文献5:JP-A-2007-158026

专利文献6:JP-A-2004-221169

专利文献7:JP-A-2004-214288

专利文献8:JP-A-2004-142430

专利文献9:JP-A-2004-072108

专利文献10:JP-A-2004-063551

发明内容

然而,为保护半导体芯片背面,粘贴背面保护膜至通过在 切割步骤中切割半导体晶片获得的半导体芯片的背面导致增加 粘贴步骤,因此步骤数量增加,成本等增加。此外,由于变薄, 在切割步骤后的半导体芯片的拾取步骤中,在一些情况下可能 损害半导体芯片。因而,期望增强半导体晶片或半导体芯片直 至拾取步骤。

考虑到前述问题,本发明的目的是提供从半导体晶片的切 割步骤至半导体芯片的倒装芯片接合步骤均能够利用的切割带 集成晶片背面保护膜。此外,本发明的另一目的是提供切割带 集成晶片背面保护膜,其在半导体芯片的切割步骤中能够显示 优良的保持力,并能在半导体芯片的倒装芯片接合步骤后显示 标识性能和外观性。

作为为解决上述传统问题深入研究的结果,本发明人已发 现,当将用其中包含的染料着色的晶片背面保护膜层压至具有 基材和压敏粘合剂层的切割带的压敏粘合剂层上,从而以集成 方式形成切割带和晶片背面保护膜时,从半导体晶片的切割步 骤至半导体芯片的倒装芯片接合步骤,均能够利用以集成方式 形成切割带和晶片背面保护膜的层压体(切割带集成晶片背面 保护膜),以及在半导体晶片的切割步骤中能够显示优良的保持 力,在半导体芯片的倒装芯片接合步骤后能够显示标识性能和 外观性,由此完成本发明。

即,本发明提供切割带集成晶片背面保护膜,其包括:切 割带,所述切割带包括基材和在所述基材上形成的压敏粘合剂 层;和晶片背面保护膜,所述晶片背面保护膜形成于所述切割 带的压敏粘合剂层上,其中所述晶片背面保护膜用其中包含的 染料着色。

如上所述,由于本发明的切割带集成晶片背面保护膜以以 下形式形成:晶片背面保护膜与包括基材和压敏粘合剂层的切 割带集成,以及晶片背面保护膜是有色的,因此工件可通过在 切割晶片(半导体晶片)时粘贴切割带集成晶片背面保护膜至工 件(半导体晶片)来保持和有效地切割。此外,切割工件以形成 芯片形工件(半导体芯片)后,通过与有色晶片背面保护膜一起, 从切割带的压敏粘合剂层剥离芯片形工件,能够容易地获得保 护其背面的芯片形工件,并且还能够有效地改进芯片形工件背 面的标识性能和外观性等。

此外,如上所述,在本发明的切割带集成晶片背面保护膜 中,由于有色晶片背面保护膜使用染料作为着色剂(着色试剂) 着色,因此将着色剂溶解于有色晶片背面保护膜中,以形成着 色剂在其中均匀或几乎均匀分散的状态。因此,能够容易地生 产具有均匀或几乎均匀的着色密度的有色晶片背面保护膜(以 及切割带集成晶片背面保护膜)。此外,由于在切割带集成晶片 背面保护膜中的有色晶片背面保护膜可具有均匀或几乎均匀的 着色密度,标识性能和外观性优良。

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