[发明专利]抗敏性口腔护理组合物

权利要求书

1.一种包含熔融二氧化硅研磨剂的口腔护理组合物，其中所述熔融二氧化硅具有0.25微米至5.0微米的中值粒度。

2.如权利要求1所述的组合物，其中所述中值粒度为2.0至4.0微米。

3.如权利要求1所述的组合物，其中所述中值粒度为1.0微米至2.5微米。

4.如权利要求1所述的组合物，其中10％的所述熔融二氧化硅颗粒具有2.0微米或更低的粒度。

5.如权利要求1所述的组合物，其中90％的所述熔融二氧化硅颗粒具有4.0微米或更低的粒度。

6.如权利要求1所述的组合物，其中所述组合物基本上不含月桂基硫酸钠。

7.如权利要求1所述的组合物，其中所述组合物基本上不含阴离子表面活性剂。

8.如权利要求1所述的组合物，所述组合物还包含抗敏剂，所述抗敏剂选自由下列组成的组：小管封闭剂和脱敏剂、以及它们的混合物。

9.如权利要求8所述的组合物，其中所述小管封闭剂选自由下列组成的组：亚锡离子源、锶离子源、钙离子源、磷离子源、铝离子源、镁离子源、氨基酸、生物玻璃、纳米粒子、聚羧酸酯、Gantrez、以及它们的混合物。

10.如权利要求9所述的组合物，其中所述氨基酸为碱性氨基酸。

11.如权利要求10所述的组合物，其中碱性氨基酸为精氨酸。

12.如权利要求9所述的组合物，其中所述纳米粒子选自由下列组成的组：纳米羟基磷灰石、纳米二氧化钛、纳米金属氧化物、以及它们的混合物。

13.如权利要求8所述的组合物，其中所述脱敏剂为钾盐，所述钾盐选自由下列组成的组：氟化钾、柠檬酸钾、硝酸钾、氯化钾、以及它们的混合物。

14.一种通过向有需要的受试者施用如权利要求1所述的口腔护理组合物来降低牙齿超敏性的方法。

15.一种通过向受试者施用如权利要求1所述的口腔护理组合物来抛光牙齿的方法。