[发明专利]5-去甲氧基烟曲霉醇及其衍生物

权利要求书

1.包括式(I)的不饱和α-酮酯或其立体异构体：

其中R¹为甲苯磺酰基、甲磺酰基、三氟甲磺酰基或全氟丁磺酰基，或者未取代或取代的芳基、烷基、烯基或炔基；R²为氢或OR³，其中R³为烷基、酰基、芳基、芳基烷基或烷基芳基；X¹和X²中的每一个独立地为O或S；并且Y为-CH₂-R⁴、-CH₂-OR⁵、-C(＝O)-R⁶或-C(＝O)-OR⁷，其中R⁴、R⁵、R⁶和R⁷中的每一个独立地为H、烷基、酰基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、三烷基甲硅烷基、甲氧基甲基、二烷基氨基、二芳基氨基或者烷基芳基氨基。

2.权利要求1的不饱和α-酮酯，其中立体异构体为对映体。

3.一种制备式(I)的不饱和α-酮酯的方法：

其中所述方法包括以下步骤：

(a)使式(II)的酯或其立体异构体：

与碱或过氧化物接触，形成式(III)的不饱和α-羟基酯或其立体异构体：

(b)用氧化剂氧化式(III)的不饱和α-羟基酯或其立体异构体，形成式(I)的不饱和α-酮酯，其中R¹为甲苯磺酰基、甲磺酰基、三氟甲磺酰基或全氟丁磺酰基，或者未取代或取代的芳基、烷基、烯基或炔基；R²为氢或OR³，其中R³为H、烷基、酰基、芳基、芳基烷基、烷基芳基；X¹和X²中的每一个独立地为O或S；并且Y为-CH₂-R⁴、-CH₂-OR⁵、-C(＝O)-R⁶或-C(＝O)-OR⁷，其中R⁴、R⁵、R⁶和R⁷中的每一个独立地为H、烷基、酰基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、三烷基甲硅烷基、甲氧基甲基、二烷基氨基、二芳基氨基或者烷基芳基氨基。

4.权利要求3的方法，其中的碱为二异丙基氨基锂(LDA)、双(三甲基甲硅烷基)氨基锂(LiHMDS)、六甲基二甲硅烷基氨基锂(LiHMDS)、双(三甲基甲硅烷基)氨基钾(KHMDS)、双(三甲基甲硅烷基)氨基钠(NaHMDS)，或其组合。

5.权利要求3或4的方法，其中的过氧化物为t-BuOOH。

6.权利要求3-5中任何一项的方法，其中的氧化剂为戴斯-马丁过碘烷、二氧化锰(MnO₂)、重铬酸吡啶(PDC)、氯铬酸吡啶(PCC)、四丙基过钌酸铵/N-甲基吗啉N-氧化物(TPAP/NMO)或其组合。