[发明专利]电子电镀废水回用深度处理工艺无效
| 申请号: | 200910264743.9 | 申请日: | 2009-12-23 |
| 公开(公告)号: | CN101734815A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
| 发明(设计)人: | 邵正锋;程育红;孙荣生;陈慧科;俞强;郭菊花;沈娟 | 申请(专利权)人: | 苏州市环境工程有限责任公司 |
| 主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F103/16 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 马明渡 |
| 地址: | 215006 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电子 电镀 废水 深度 处理 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及一种电子电镀废水回用深度处理工艺,主要用于处理电子电镀工业产生的重金属清洗废水,属于废水处理技术领域。
背景技术
电子电镀工业是耗水量大、污染严重的行业,以电子信息、精密机械行业为例,在其产品制造加工过程中,产生各类污染物成分复杂的废水,其中重金属的污染尤为严重,重金属废水是电子电镀工业潜在危害性极大的废水类别,其主要含有铜(Cu)、镍(Ni)等,这些含有大量重金属污染物的电子电镀废水如直接排入环境,不仅严重污染地表水与地下水,造成全球可利用水资源总量急剧下降,而且当重金属在水体和土壤中积累到一定的限度后,通过食物链影响到生物和人类的健康。此外,电子电镀工业普遍存在水资源重复使用率低,浪费严重的现象。
电子电镀废水的治理在国内外普遍受到重视,目前已开发应用的电子电镀废水的处理方法主要分为三大类:(1)化学法,包括中和沉淀法、硫化物沉淀法、铁氧体沉淀法、化学还原法、电化学法和高分子法;(2)物理化学法,包括吸附法、萃取法、离子交换法、膜分离法、蒸发和凝固法等;(3)生物处理法,包括生物絮凝法、生物化学法和植物修复法。化学法存在的缺点是:操作管理繁琐、药剂费用高,且容易产生二次污染;生物法则难以选择功能菌;物理化学法中的吸附法和离子交换法虽能有效处理含重金属废水,但当其再生时,污染物又会重新产生。膜分离法是一种高效、环保的处理方法,不需添加任何化学药剂、低能耗、稳定性好、灵活性强,相比之下,膜分离技术的优势就得到了体现,该技术已日益受到人们的关注。目前,电子电镀废水处理的膜分离技术最常见的是将微滤、超滤、纳滤与反渗透膜进行多级组合运用,这种膜组合工艺虽能实现水和重金属的循环利用,但存在工艺复杂化、投资和运行成本高的问题。
随着环保要求的日益提高和循环经济的提出,电子电镀废水的治理已从单纯的末端治理进入清洁生产工艺、资源回收利用的阶段,废水回用处理是主流方向。目前,仅有部分企业将处理达标的废水考虑回用于生活用水(冲厕或绿化)和水质要求不严的生产冲洗水,废水回用于水质要求严格的生产工序用水的实例不多,也没有推广应用的工艺技术。在电子电镀工业的生产过程中,蚀刻、微蚀、电镀等工序将产生大量的含重金属的清洗废水,这部分清洗废水水量较大,含有一定的有机污染物,重金属污染物以铜、镍为主且浓度相对较低,是整个废水系统中最清洁的部分,适合作为废水深度处理后回用于对水质要求严格的生产工序,以提高废水的循环利用价值。
发明内容
本发明提供一种电子电镀废水回用深度处理工艺,目的是将蚀刻、微蚀、电镀等工序将产生大量的含重金属的清洗废水回用于生产工序,从而提高废水的使用率。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种电子电镀废水回用深度处理工艺,针对下列水质指标的电子电镀废水:
(1)化学需氧量小于或等于200mg/l;
(2)铜和镍的含量均小于或等于200mg/l;
(3)电导率小于或等于2500μs/cm;
采用以下步骤进行处理:
第一步:将被处理电子电镀废水的pH值调至9~10,然后向其中加入混凝剂并进行搅拌,使电子电镀废水中的金属离子反应生成金属氢氧化物后沉淀;在加入混凝剂并进行搅拌的过程中维持pH值为9~10;所述混凝剂选自聚合氯化铝、硫酸亚铁、三氯化铁和硫酸铝中的至少一种;
第二步:采用微滤膜,以错流方式,采用微滤膜,以错流方式,在0.28~0.35Mpa的压力下对第一步得到的处理液进行处理,滤除第一步中产生的沉淀物;所述微滤膜的滤孔孔径为0.1μm~0.2μm;
第三步:将第二步得到的处理液首先调节pH值至7~8,然后先用活性炭过滤器进行处理,再用保安过滤器进行处理,使处理液污染指数小于或等于5.0;
第四步:将第三步得到的处理液,在压力为1~1.5Mpa的条件下进行反渗透处理,使处理液电导率小于或等于50μs/cm,从而得到回用水。
上述技术方案中的有关内容解释如下:
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