[发明专利]基板检查方法、基板检查装置和存储介质有效
| 申请号: | 200910246546.4 | 申请日: | 2009-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN101752218A | 公开(公告)日: | 2010-06-23 |
| 发明(设计)人: | 岩永修儿;久野和哉 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/66;G01N21/88 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 检查 方法 装置 存储 介质 | ||
1.一种基板检查方法,其使用检查装置进行检查,该检查装置包 括:使用摄像元件的摄像照相机、和载置通过该摄像照相机被摄像的 被检查基板的载置台,该基板检查方法的特征在于,包括:
将包含三维世界坐标系中的坐标为已知的基准点的夹具载置在所 述载置台上并通过所述摄像照相机进行摄像,取得通过在摄像元件中 被配置为矩阵状的像素组指定的图像坐标系上的所述基准点的坐标的 工序;
基于像素的纵、横的尺寸,将所述图像坐标系上的所述基准点的 坐标,变换成作为由所述摄像照相机所摄像的画面上的坐标系的图像 平面坐标系的坐标的工序;
利用包含摄像照相机的光学系统的参数的机器参数对所述图像平 面坐标系上的所述基准点的坐标进行修正,将该坐标变换成作为在摄 像照相机中设定的三维坐标系的照相机坐标系的坐标的工序;
通过所述一系列的工序,至少取得6点所述照相机坐标系上的所 述基准点的坐标,基于所取得的所述照相机坐标系上的所述基准点的 各个的坐标、世界坐标系上的各基准点的坐标、和照相机坐标系与世 界坐标系之间的变换式,通过计算求出由相对世界坐标系的照相机坐 标系的X方向、Y方向、Z方向的各个偏离量和绕X轴的旋转角、绕 Y轴的旋转角以及绕Z轴的旋转角构成的两坐标系的变换参数的工序;
用所述摄像照相机对载置在所述载置台上的被检查基板进行摄 像,取得所述图像坐标系上的图像数据的工序;
基于像素的纵、横的尺寸,将在该工序中取得的所述图像坐标系 上的图像数据变换成所述图像平面坐标系上的图像数据,进而基于所 述机器参数,将该图像数据变换为所述照相机坐标系上的图像数据, 进一步使用所述照相机坐标系和世界坐标系之间的变换式以及已经取 得的所述变换参数,将该图像数据变换为世界坐标系上的图像数据的 工序;和
基于在该工序中得到的世界坐标系上的图像数据进行被检查基板 的检查的工序。
2.如权利要求1所述的基板检查方法,其特征在于:
所述夹具是在其表面形成有基准点的修正用基板。
3.如权利要求2所述的基板检查方法,其特征在于,包括:
所述修正用基板的摄像之后,使该修正用基板旋转,改变其方向 的工序,和进一步对已改变过方向的修正用基板进行摄像的工序,
所述基准点的世界坐标系的坐标在改变基板的方向的前后为已 知,进行:在改变该基板的方向的前后取得所述图像坐标系上的所述 基准点的坐标的工序;将所取得的所述图像坐标系上的所述基准点的 坐标变换为所述图像平面坐标系的坐标的工序;进一步将该图像平面 坐标系的基准点的坐标变换为所述照相机坐标系的坐标的工序,
基于该照相机坐标系的各基准点的坐标、和世界坐标系上的各基 准点的坐标,通过计算而求出所述变换参数。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





