[发明专利]高分子PTC芯片及其应用无效

专利信息
申请号: 200910200959.9 申请日: 2009-12-25
公开(公告)号: CN101763925A 公开(公告)日: 2010-06-30
发明(设计)人: 周欣山;傅坚;宋华;李凯 申请(专利权)人: 上海神沃电子有限公司
主分类号: H01C7/02 分类号: H01C7/02;H01C7/13
代理公司: 上海光华专利事务所 31219 代理人: 许亦琳;余明伟
地址: 201108 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 高分子 ptc 芯片 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种高分子PTC芯片,由两片金属箔电极以及夹在所述两片金属箔电极之间的高分子PTC复合导电材料层复合构成,所述高分子PTC复合导电材料由包括下列组分及体积百分配比的原料复合而成:

有机高分子聚合物  24.5%-40%;

导电陶瓷粒子      55%-75%

炭黑              0.5%-10%。

2.如权利要求1所述高分子PTC芯片,其特征在于,所述高分子PTC复合导电材料由包括下列组分及体积百分配比的原料复合而成:

有机高分子聚合物  26%-38%;

导电陶瓷粒子      55%-73.5%;

炭黑              0.5%-10%。

3.如权利要求1或2所述高分子PTC芯片,其特征在于,所述的有机高分子聚合物为热塑性聚合物。

4.如权利要求3所述高分子PTC芯片,其特征在于,所述热塑性聚合物选自聚乙烯、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯酸共聚物和聚偏氟乙烯。

5.如权利要求3所述高分子PTC芯片,其特征在于,所述热塑性聚合物为高密度聚乙烯。

6.如权利要求1、2或4所述高分子PTC芯片,其特征在于,所述的导电陶瓷粒子为IV族金属氮化物,或者IV族金属碳化物,或者他们的混合物。

7.如权利要求6所述高分子PTC芯片,其特征在于,所述IV族金属氮化物为氮化钛,所述IV族金属碳化物为碳化钛。

8.一种高分子PTC过流保护元件,含有权利要求1-7任一所述高分子PTC芯片。

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