[发明专利]发光装置有效

专利信息
申请号: 200910140505.7 申请日: 2009-05-06
公开(公告)号: CN101655192A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 陈鼎元;余振华;邱文智 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: F21S2/00 分类号: F21S2/00;F21V7/00;F21V7/22;H01L33/00;F21Y101/02
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 姜 燕;陈 晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 发光 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及制造全向反射器(Omni-directional reflector)的方法与系统,且 特别涉及适用于发光二极管(Light Emitting Diode,LED)的全向反射器的形成 方法与系统。

背景技术

发光二极管通常是由第一接触层、有源层、以及第二接触层所构成的二 极管,当施予正向偏压时会产生光,而所产生的光会由有源层朝所有方向发 散。然而,在大部分情况需要将光线引导到一特定方向,如果没有任何反射 器的话,在特定方向的光量将只会占一小部分。此外,如果LED是形成在 会吸光的基板上,例如硅基板,则朝向基板发散的光线将被基板吸收而损失 大半。一般而言,射向硅基板的光线仅有10%以下会被反射回来。

为解决上述问题,可在LED上设置反射器以将光线引导到所需的方向 并远离吸光基板。传统的反射器包括布拉格反射层(Distributed Bragg Reflectors,DBRs),其使用不同折射率的材料交替形成多层膜以反射光线。然 而,布拉格反射层并非全向(Omnidirectional),当入射光的角度相对于布拉格 反射层的法线增加时,其反射率下降,而使LED的发光效率也随之下降。

因此,业界亟需一种改良的反射器,以在更大范围的入射角提供更好效 率。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题,本发明提供一种发光装置,包括: 一基板;一反射层位于基板上;一光子晶体层位于反射层上;以及,一发光 二极管位于光子晶体层上。

本发明另提供一种发光装置,包括:一基板;一反射层位于基板上;一 准直器位于反射层上;以及,一发光二极管位于准直器上。

本发明更提供一种发光装置,包括:一第一基板;一发光二极管位于该 第一基板上;以及,一反射器位于发光二极管与第一基板之间,其中反射器 包括:一反射层以及一光子晶体层。

本发明能够在更大范围的入射角提供更好效率。

为让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂,下文特举 出较佳实施例,并配合附图,作详细说明如下。

附图说明

图1A-图1D显示本发明中于反射层上形成光子晶体层的实施例。

图2A-图2C显示将LED结构形成在第二基板上,然后结合至光子晶体 层的实施例。

图3A-图3B显示本发明中于光子晶体层上形成反射层的实施例。

图4A-图4B显示将LED结构形成在第二基板上,然后结合至反射层的 实施例。

上述附图中的附图标记说明如下:

101~第一基板

103~反射层

105~光子晶体层

106~基体材料

107~LED结构

108~介电材料点阵

109~第一接触层

111~有源层

113~第二接触层

201~第二基板

203~金属层

具体实施方式

以下实施例将以具有全向反射器的LED为例进行说明,但本发明也可 应用于其他反射层。

图1A显示一第一基板101,其上具有一反射层103。第一基板101较佳 为一蓝宝石或半导体基板。应注意的是,虽然本发明的实施例是以蓝宝石或 硅基板为例进行说明,但本发明也可使用其他基板,例如绝缘层上覆硅(SOI) 基板、SiC基板、MgAl2O4基板等。在较佳实施例中可选用硅基板,因为其 具有低成本与降低LED结构中残余应力的优点。此外,虽然较佳使用具有 (111)表面晶向的基板,但也可以使用具有(110)或(110)表面晶向的基板。

反射层103较佳形成在第一基板101上以反射来自LED的光线,此LED 将于后续步骤形成在反射层103上方(将配合图1D描述)。反射层103较佳为 布拉格反射层(DBR)以将光线反射至远离第一基板101的方向,当光线的入 射角较大时(相对于DBR表面约90度角时),此反射层具有高效率。然而, 当光线的入射角较小时(例如小于约80度),反射层103的效率较差。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910140505.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top