[发明专利]发光装置

权利要求书

1.一种发光装置，包括：

一基板；

一反射层位于该基板上；

一光子晶体准直层位于该反射层上，其中该光子晶体准直层是由一基 体材料以及一介电材料点阵所构成，该介电材料点阵包括多个柱状物，且所 述多个柱状物以重复点阵型式形成于该基体材料中，其中该光子晶体准直层 对第一方向为同质，对第二方向与第三方向为非同质，该第一方向为垂直于 该基板的方向，该第二方向与该第三方向为平行于该基板的方向；以及

一发光二极管位于该光子晶体准直层上。

2.如权利要求1所述的发光装置，还包括一金属结合层介于该光子晶体 准直层与该发光二极管之间。

3.如权利要求1所述的发光装置，其中该发光二极管与该光子晶体准直 层共享一界面。

4.如权利要求1所述的发光装置，其中该反射层包含一布拉格反射层。

5.如权利要求1所述的发光装置，其中该光子晶体准直层包含一第一材 料点阵位于一第二材料中，且该第一材料与第二材料具有不同的折射率。

6.如权利要求1所述的发光装置，其中该光子晶体准直层包含GaN、Si、 或介电材料。

7.如权利要求1所述的发光装置，其中该介电材料点阵延伸穿过该基体 材料。

8.一种发光装置，包括：

一第一基板；

一发光二极管位于该第一基板上；以及

一反射器位于该发光二极管与该第一基板之间，其中该反射器包括：

一反射层；以及

一光子晶体准直层，由一基体材料以及一介电材料点阵所构成，该 介电材料点阵包括多个柱状物，且所述多个柱状物以重复点阵型式形成于该 基体材料中，其中该光子晶体准直层对第一方向为同质，对第二方向与第三 方向为非同质，该第一方向为垂直于该第一基板的方向，该第二方向与该第 三方向为平行于该第一基板的方向。

9.如权利要求8所述的发光装置，其中该光子晶体准直层位于该反射层 与该发光二极管之间。

10.如权利要求9所述的发光装置，其中该发光二极管与该光子晶体准直 层直接接触。

11.如权利要求8所述的发光装置，其中该反射层包含一布拉格反射层。

12.如权利要求8所述的发光装置，其中该光子晶体准直层包含GaN、 Si、或介电材料。

13.如权利要求8所述的发光装置，还包括一金属层位于该光子晶体准直 层与该发光二极管之间。

14.如权利要求8所述的发光装置，其中该介电材料点阵延伸穿过该基体 材料。