[发明专利]适用于高方阻的低温烧结技术无效
申请号: | 200910099023.1 | 申请日: | 2009-06-04 |
公开(公告)号: | CN101908577A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 胡本和 | 申请(专利权)人: | 胡本和 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;F27B5/02 |
代理公司: | 浙江翔隆专利事务所 33206 | 代理人: | 戴晓翔;胡龙祥 |
地址: | 333100 江西省鄱*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 适用于 高方阻 低温 烧结 技术 | ||
1.适用于高方阻的低温烧结技术,其特征是:将欲扩散的方块电阻调节至66~75欧姆之间,将银浆按照0.4~0.6克的湿重印刷在方块电阻上,再将印刷了银浆的方块电阻以3000~5000mm/min的速度穿越200~450℃的低温烧结炉进行烧结。
2.根据权利要求1所述的适用于高方阻的低温烧结技术,其特征是所述的低温烧结炉分为连续的10段温区,1~3段温区为烘干区,4~6段温区位玻璃熔融区,7~10段温区为快速烧结区,第1段温区至第10段温区的温度依次设定为200℃、250℃、300℃、300℃、330℃、380℃、400℃、410℃、420℃、430℃。
3.根据权利要求1所述的适用于高方阻的低温烧结技术,其特征是对银浆湿重的控制通过调节丝网间距和印刷压力实现。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胡本和,未经胡本和许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200910099023.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的