[发明专利]扫描线序号的标注方法和掩膜板有效
申请号: | 200910079479.1 | 申请日: | 2009-03-12 |
公开(公告)号: | CN101833201A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 吕敬 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;H01L21/84;G03F1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 扫描 序号 标注 方法 掩膜板 | ||
1.一种扫描线序号的标注方法,其特征在于,包括:
(1)在对光刻胶进行曝光时,在扫描线对应位置的旁边形成线编号的光刻胶保留图案、以及光刻胶保留区域;
(2)在所述光刻胶保留区域打码形成区域编号的光刻胶保留图案;
(3)对经过曝光和打码的光刻胶进行显影处理,并刻蚀掉显影处理后露出的金属;
(4)剥离剩余的光刻胶以露出线编号和区域编号。
2.根据权利要求1所述的扫描线序号的标注方法,其特征在于,若所述光刻胶为正性光刻胶,所述(1)具体包括:
(11)在沉积有源/漏金属层或者栅金属层的基板上涂敷光刻胶;
(12)通过掩膜板对光刻胶进行曝光;该掩膜板上在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边设有具有遮光性的挡光块和线编号的遮光图案,该挡光块对应光刻胶的区域为光刻胶保留区域,该线编号的遮光图案对应线编号的光刻胶保留图案。
3.根据权利要求1所述的扫描线序号的标注方法,其特征在于,若所述光刻胶为负性光刻胶,所述(1)具体包括:
(11′)在沉积有源/漏金属层或者栅金属层的基板上涂敷光刻胶;
(12′)通过掩膜板对光刻胶进行曝光;该掩膜板上在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边设有透光区域和线编号的透光图案,该透光区域对应光刻胶的区域为光刻胶保留区域,该线编号的透光图案对应线编号的光刻胶保留图案。
4.根据权利要求2或3所述的扫描线序号的标注方法,其特征在于,所述基板上的光刻胶包括非重复曝光区和重复曝光区,所述(12)或(12′)中通过掩膜板对光刻胶进行曝光为:使用掩模板对光刻胶进行分区曝光,分别形成所述非重复曝光区和重复曝光区的线编号的光刻胶保留图案,同时在所述各非重复曝光区和重复曝光区形成至少一个光刻胶保留区域,该光刻胶保留区域在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边。
5.根据权利要求1所述的扫描线序号的标注方法,其特征在于,所述(2)具体包括:通过打码机对所述光刻胶保留区域进行光照形成区域编号,其中,光刻胶保留区域中该区域编号的图案对应的光刻胶部分保留。
6.一种掩膜板,包括透光基板,所述透光基板上设有形成扫描线的图形区域,其特征在于,所述图形区域包括在扫描线对应位置旁边形成线编号的光刻胶保留图案的图形、以及在扫描线对应位置旁边形成光刻胶保留区域的图形。
7.根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板为制作数据扫描线或栅极扫描线的掩膜板,该掩膜板上在栅极扫描线和/或数据扫描线对应位置的旁边设有形成光刻胶保留区域的图形和形成线编号的光刻胶保留图案的图形。
8.根据权利要求6所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括至少两个对光刻胶进行分区曝光的局部曝光区域,所述局部曝光区域包括非重复曝光区和重复曝光区,并且在所述非重复曝光区和重复曝光区内分别形成至少一个形成光刻胶保留区域的图形和形成线编号的光刻胶保留图案的图形。
9.根据权利要求6至8任意一项所述的掩膜板,其特征在于,若光刻胶为正性光刻胶,所述形成光刻胶保留区域的图形为挡光块,所述形成线编号的光刻胶保留图案的图形为具有遮光性的图形;若光刻胶为负性光刻胶,所述形成光刻胶保留区域的图形为透光区域,所述形成线编号的光刻胶保留图案的图形为具有透光性的图形。
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