[发明专利]一种转印膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910053354.1 申请日: 2009-06-18
公开(公告)号: CN101927628A 公开(公告)日: 2010-12-29
发明(设计)人: 许琳翔;黄淑瑶 申请(专利权)人: 许琳翔;黄淑瑶
主分类号: B41M5/40 分类号: B41M5/40;B41M5/41;B41M5/44
代理公司: 上海宏威知识产权代理有限公司 31250 代理人: 金利琴
地址: 上海市嘉定*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 转印膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种转印膜,包括基膜层,其特征是:还包括丙烯酸UV树脂层和油墨层,各层间的连接顺序依次为基膜层、丙烯酸UV树脂层和油墨层。

2.如权利要求1所述的一种转印膜,其特征在于,所述的基膜层是聚酯层,厚度为15~18um。

3.如权利要求1所述的一种转印膜,其特征在于,所述的丙烯酸UV树脂层的干量为3.5~4.5克/平方米。

4.一种转印膜的制备方法,其特征在于包括下列步骤:

(1)制作转移基膜,在基膜聚酯薄膜上涂布丙烯酸UV树脂,然后进行光固化,制得转移基膜;

(2)制作转印膜,将转移基膜以里印方式进行多色凹印,油墨印刷在丙烯酸UV树脂上,制得转印膜。

5.如权利要求4所述的一种转印膜的制备方法,其特征在于,所述的基膜厚度为15~18um,丙烯酸UV树脂的干量为3.5~4.5克/平方米,丙烯酸UV树脂的硬度2~3H。

6.如权利要求4所述的一种转印膜的制备方法,其特征在于,所述的丙烯酸UV树脂光固化的固化灯能量120w~150w/cm,曝光时间1~2秒。

7.如权利要求4所述的一种转印膜的制备方法,其特征在于,所述的多色凹印可以采用耐蒸煮油墨,可以施以镭射模压及镀铝。

8.一种金属转印技术,其特征在于包括下列步骤:

(1)制作转移基膜,在基膜聚酯薄膜上涂布丙烯酸UV树脂,然后进行光固化,制得转移基膜;

(2)制作转印膜,将转移基膜以里印方式进行多色凹印,油墨印刷在丙烯酸UV树脂上,制得转印膜。

(3)在转印膜的油墨上涂布UV涂料;

(4)将转印膜复合在金属表面,基膜在外,使UV涂料与金属贴合,进行光固化;

(5)剥离基膜,完成转印。

9.如权利要求8所述的一种金属转印技术,其特征在于,所述的基膜厚度为15~18um,丙烯酸UV树脂的干量为3.5~4.5克/平方米,丙烯酸UV树脂的硬度2~3H,所述的丙烯酸UV树脂光固化的固化灯能量120w~150w/cm,曝光时间1~2秒。

10.如权利要求8所述的一种金属转印技术,其特征在于,所述的UV涂料选用丙烯酸系、聚酯系或环氧系UV涂料,涂布干量2~3克/平方米,其光固化的固化灯能量180w/cm~200w/cm,曝光时间1~2秒。

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