[发明专利]使用两个被接合的层的可编程ROM及操作方法有效

专利信息
申请号: 200880109855.0 申请日: 2008-08-27
公开(公告)号: CN101816071A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 赛义德·M·阿拉姆;罗伯特·E·琼斯 申请(专利权)人: 飞思卡尔半导体公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 穆德骏;陆锦华
地址: 美国得*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 使用 两个 接合 可编程 rom 操作方法
【权利要求书】:

1.一种可编程只读存储器,包括:

第一层,所述第一层包括功能性有源装置和至少一个未编程的有 源装置;

第二层,所述第二层至少包括与所述至少一个未编程的有源装置 关联的导电线路;以及

被接合的层间连接,所述被接合的层间连接用于将所述第一层连 接到所述第二层,所述被接合的层间连接包括至少一个被接合的可编 程层间连接,以用于对所述至少一个未编程的有源装置进行编程,并 且用于将所述导电线路与所述至少一个未编程的有源装置关联。

2.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,其中,所述功能性 有源装置还包括:

多个列选择晶体管;

多个字线驱动器;以及

感应放大器。

3.根据权利要求2所述的可编程只读存储器,其中,所述至少一 个未编程的有源装置还包括:

晶体管阵列,所述晶体管阵列位于所述第一层中,并且形成多个 行和列,所述晶体管阵列中的每个晶体管具有一个未电连接的电流电 极。

4.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,其中,所述至少一 个被接合的可编程层间连接包括闭合可编程层间连接或开放可编程层 间连接。

5.根据权利要求4所述的可编程只读存储器,进一步地,其中所 述闭合可编程层间连接表示第一逻辑状态,并且所述开放可编程层间 连接表示第二逻辑状态,所述第二逻辑状态不同于所述第一逻辑状态。

6.根据权利要求4所述的可编程只读存储器,进一步地,其中所 述闭合可编程层间连接包括微焊盘连接的存在,并且其中所述开放可 编程层间连接包括在接合界面处不存在微焊盘连接。

7.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,其中,所述被接合 的层间连接还包括被接合的微焊盘连接。

8.根据权利要求7所述的可编程只读存储器,其中,所述被接合 的微焊盘连接包括从(i)Cu3Sn合金接合、(ii)Cu-Cu接合、以及(iii) Au-Au接合中选择的一个。

9.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,其中,对所述至少 一个被接合的可编程层间连接的编程通过从由所述第一层、所述第二 层与所述第一层和所述第二层的组合构成的组中选择的一个上的微焊 盘的掩模图案化来限定。

10.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,其中,所述第一 层和所述第二层中的至少一个包括具有至少一个穿透衬底的导通孔的 衬底,并且其中,所述至少一个被接合的可编程层间连接还包括(i) 由被接合的微焊盘和穿透衬底的导通孔形成的闭合可编程层间连接、 或(ii)通过在接合界面处不存在微焊盘和穿透衬底的导通孔形成的开 放可编程层间连接。

11.根据权利要求10所述的可编程只读存储器,进一步地,其中 所述第一层包括具有连接到所述至少一个未编程的有源装置的至少一 个穿透衬底的导通孔的衬底,并且其中,所述至少一个被接合的可编 程层间连接还包括使用被接合的微焊盘和穿透衬底的导通孔而被编程 的至少一个未编程的有源装置。

12.根据权利要求10所述的可编程只读存储器,进一步地,其中 所述第二层包括具有连接到所述导电线路的至少一个穿透衬底的导通 孔的衬底,并且其中,所述至少一个被接合的可编程层间连接还包含 导电材料,用于为所述至少一个未编程的有源装置进行编程,并且用 于利用所述至少一个穿透衬底的导通孔,将所述导电线路连接到所述 未编程的有源装置。

13.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,其中,所述第一 层包括半导体晶圆或半导体管芯,并且其中,所述第二层包括半导体 晶圆或半导体管芯。

14.根据权利要求1所述的可编程只读存储器,进一步地,其中 所述功能性有源装置和所述至少一个未编程的有源装置包括芯片上系 统的部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于飞思卡尔半导体公司,未经飞思卡尔半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200880109855.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top