[实用新型]用在塑材上溅射金属中定位的夹具

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用在塑材上溅射金属中定位的夹具，具体的说是一种用于将塑材工件在进行真空溅射金属沉积薄膜工艺中进行定位的夹具。

背景技术

塑材工件的金属镀膜采用真空溅射，真空溅射设备腔体内的磁控金属靶材，经通电金属靶材外缘会产生大量的离子，通过惰性气体撞击金属靶材，金属离子会溅射出来并在塑材工件上沉积成金属薄膜，这种产品的工艺中，需要夹具来配合完成。现有传统技术中，利用数控机床或铣床加工技术，已经有这种夹具的制作，但这种夹具经过真空溅射设备测试验证，不能在塑材工件上获得织密稳定的薄膜，将进行再修改测试验证，甚至于报废夹具或塑材工件，浪费时间、人力，而且生产效率低。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种用于将塑材工件在进行真空溅射金属沉积薄膜工艺中进行定位的夹具。

为解决以上技术问题，本实用新型采取的技术方案是：一种用在塑材上溅射金属中定位的夹具，该夹具用于将塑材工件在进行真空溅射金属沉积薄膜工艺中进行定位，所述的塑材工件包括镀膜区和非镀膜区，该夹具包括上框、底座、遮蔽装置、真空离子减弱装置，所述的底座上设置有用于将塑材工件定位在其上的定位装置，所述的底座和上框上设置有相互配合作用的定位机构，该定位机构能对所述的底座和所述的上框之间进行定位；所述的遮蔽装置用于对塑材工件的非镀膜区进行遮蔽，所述的遮蔽装置的尺寸和位置与所述塑材工件上的非镀膜区尺寸和位置相对应；所述的真空离子减弱装置用来减弱金属离子对塑材工件上的镀膜区的较薄弱易产生变形部位的溅射。

所述的定位装置包括设置在底座上的多个定位销，所述的多个定位销与所述的塑材工件上的多个圆孔相配合，当塑材工件定位在所述的底座上时，所述的各定位销分别插在所述塑材工件的相应圆孔内。

所述的定位机构包括设置在底座上的的至少一组角形立柱，该角形立柱的内侧面形成一光滑的内弧面，所述的上框在位于与所述角形立柱相对应的位置设置有外弧面，当所述底座与上框相配合作用时，所述内弧面、外弧面相贴紧。

所述的遮蔽装置中，一部分遮蔽装置是一体设置在所述的上框的，另一部分遮蔽装置为独立设置。

所述的真空离子减弱装置包括遮蔽块、遮蔽隔离网，所述的真空离子减弱装置设置在塑材工件上的镀膜区的较薄弱易产生变形部位的上方。

所述遮蔽装置上有斜向引导角。

所述的底座下设置有多个支撑装置，所述的支撑装置包括支撑柱、支撑块，所述的支撑块套在所述的支撑柱上用于支撑所述的底座。

由于本实用新型采用了以上的技术方案，其优点在于：塑材工件经本实用新型定位后进行溅射，能够快速、准确的获得织密稳定的沉积薄膜。

附图说明

附图1为本实用新型上框与底座示意图；

附图2为塑材工件示意图；

附图3为底座与塑材工件定位剖面图；

附图4为底座与上框定位示意图；

附图5为底座与上框定位剖面图；

附图6为夹具构造剖面图；

附图7为上框及遮蔽隔离网剖面图；

附图8为支撑装置剖面图；

附图9为外插配件构造剖面图；

附图10为内遮配件构造剖面图；

附图11为塑材工件及遮蔽块剖面图；

其中：1、上框；2、底座；3、塑材工件；4、角形立柱；5、内弧面；6、外弧面；7、定位销；8、内遮配件；9、外遮配件；10、遮蔽块；11、遮蔽隔离网；12、支撑柱；13、支撑块；14、热熔柱；15、斜向引导角。

具体实施方式

如附图1、附图2、附图3和附图7所示，整个用在塑材上溅射金属中定位的夹具根据具体的塑材工件3设计而成，该夹具包括上框1、底座2、遮蔽装置、真空离子减弱装置，塑材工件3包括镀膜区和非镀膜区，遮蔽装置用来遮蔽非镀膜区防止金属离子溅射到非镀膜区，真空离子减弱装置用来减弱金属离子对塑材工件3上的镀膜区的较薄弱易产生变形部位的溅射。如附图5、附图6所示，上框1与底座2之间的定位机构包括设置在底座2上的一组角形立柱4，该角形立柱4的内侧面形成一光滑的内弧面5，上框1在位于与角形立柱4相对应的位置设置有外弧面6，当底座2与上框1相配合作用时，所述内弧面5、外弧面6相贴紧。如附图4所示，底座2与塑材工件3之间的定位装置包括设置在底座2上的两个定位销7，定位销7与塑材工件3上的两个圆孔相配合，当塑材工件3定位在底座2上时，各定位销7分别插在塑材工件3的相应圆孔内。如附图11所示，遮蔽装置包括内遮配件8，塑材工件3非镀膜区上的一些部位如孔或凹槽等不需要镀膜时，在上框1相应位置设置内遮配件8，内遮配件8能够阻挡金属离子对塑材工件3的非镀膜区的溅射；如附图10所示，遮蔽装置还包括外遮配件9，塑材工件3非镀膜区的一些部位如孔或凹槽等不需要镀膜时，如果采用内遮配件8，孔或凹槽边的镀膜区不能进行镀膜，该些部位沉积薄膜不能满足要求，故设置外遮配件9，外遮配件9插入孔或凹槽里，外遮配件9不会遮蔽掉能够溅射到镀膜区的金属离子；遮蔽装置上设置有斜向引导角15，减少遮蔽装置遮蔽掉能够溅射到镀膜区的金属离子。如附图8和附图12所示，真空离子减弱装置包括遮蔽块10和遮蔽隔离网11，金属离子溅射时会产生高温，塑材工件3非镀膜区的一些部位较薄弱容易产生变形，这些部位包括热熔柱14、加强筋、缺口边缘等，在这些部位的上方架设遮蔽块10或遮蔽隔离网11，能够引导离子使之不至于过于集中，从而降低该处塑材工件3的温度，不致使塑材工件3产生变形。如附图9所示，沉积薄膜厚度通过定位夹具与靶材的距离来调节，它们的距离通过更换夹具底座2下的支撑装置来调整，支撑装置包括支撑柱12、支撑块13，支撑块13套在支撑柱12上用于支撑底座2，不同的支撑装置有不同的高度，更换不同高度的支撑装置可以调节定位夹具与靶材的距离即改变了沉积薄膜的厚度。