[实用新型]一种多晶硅还原炉有效
| 申请号: | 200820176463.3 | 申请日: | 2008-12-03 | 
| 公开(公告)号: | CN201326030Y | 公开(公告)日: | 2009-10-14 | 
| 发明(设计)人: | 于润艳;朱明镐;吴二妮 | 申请(专利权)人: | 西安核设备有限公司 | 
| 主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C01B33/03 | 
| 代理公司: | 核工业专利中心 | 代理人: | 高尚梅 | 
| 地址: | 710021陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 多晶 还原 | ||
1.一种多晶硅还原炉,它包括带有冷却水腔的炉体、底盘、底盘下的进气管和排气管、硅棒和底盘上的电极,其特征在于:所述的炉体包括炉体内筒(6)、焊接在炉体内筒(6)顶部的内筒封头(25)、焊接在炉体内筒(6)底部的容器法兰(22)和通过快拆螺栓与容器法兰(22)底部连接的底盘(9),且炉体内筒(6)、内筒封头(25)、容器法兰(22)和底盘(9)形成炉体内腔体(23),炉体内筒(6)外套有炉体夹套(7),炉体夹套(7)顶部焊接夹套封头(26),炉体内筒(6)和炉体夹套(7)底部焊接在容器法兰(22)上,炉体内筒(6)、炉体夹套(7)、夹套封头(26)和容器法兰(22)形成炉体冷却水腔(4);底盘(9)上的硅芯电极(10)为十五对,一对电极含一个正电极(10a)和一个负电极(10b),十五对电极在底盘(9)上沿三个圆周均布设置,即形成三圈电极,外圆周均匀设置九对电极,内圆周和中间圆周上分别均匀设置三对电极,每一周上的正电极(10a)和负电极(10b)均匀间隔设置,在中间圆周和内圆周上的电极逐一交错连接设置。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉,其特征在于:所述的炉体冷却水腔(4)内设有与炉体内筒(6)外壁焊接、与炉体夹套(7)内壁间留有间隙的炉体冷却导流板(5),炉体内筒(6)和炉体夹套(7)的侧壁从上至下分布三个观察视镜(24),从观察视镜(24)够观察到炉体内腔体(23)内硅棒(3)的整体情况,炉体夹套(7)的侧壁外底部设有与炉体冷却水腔(4)相通的炉体冷却水腔进水口(8),夹套封头(26)顶部中间设有与炉体冷却水腔(4)相通的炉体冷却水腔出水口(1)。
3.根据权利要求1所述的一种多晶硅还原炉,其特征在于:所述的底盘(9)包括底盘上底板(21)、底盘法兰(20)、底盘下底板(18)、冷却水进口(14)和底盘冷却水出口(15),底盘上底板(21)的底部与底盘法兰(20)焊接,底盘法兰(20)与底盘下底板(18)焊接,且底盘上底板(21)、底盘法兰(20)和底盘下底板(18)形成底盘水冷却腔(19),冷却水进口(14)为双层套管,冷却水进口(14)的内层管一端贯穿底盘上底板(21)和底盘下底板(18)、且与炉体内腔体(23)相通,起反应气体出口的作用,冷却水进口(14)的外层管一端与底盘水冷却腔(19)相通,起到冷却水进口的作用;冷却水进口(14)的另一端悬置在底盘下底板(18)底部;反应气体进气喷嘴(17)共七个,其中,一个喷嘴(17)设置在底盘(9)中心位置,其余六个喷嘴(17)位于外圆周电极和中间圆周电极之间,且喷嘴(17)方位与内圆周上电极的分布一致,同时六个喷嘴沿同一圆周均布设置在底盘(9)上,冷却水进口(14)、同时也是反应气体出口,设置在邻近底盘(9)中心的位置处。
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