[实用新型]光掩模清洗机的工艺处理舱

权利要求书

1、一种光掩模清洗机的工艺处理舱，包括外罩、内套(4)和顶盖(2)，其特征在于：所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩(1)、中罩(5)和底罩(6)构成，上罩(1)具有圆锥形的罩壁，中罩(5)的罩壁上设有一个抽气口(52)，且中罩(5)内具有一个倒锥形的挡流圈(51)，挡流圈(51)延伸并超过抽气口(52)，具有排液口(61)的底罩(6)与内套(4)的下部密封连接，顶盖(2)密封安装在内套(4)的上部。

2、根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于：所述中罩(5)内的挡流圈(51)与中罩(5)的罩壁之间的夹角A在10°～30°之间。

3、根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于：所述上罩(1)的中上部呈锥形，中下部为直桶形，且锥形的锥角在30°～60°之间。

4、根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于：所述的内套(4)具有波纹状的可伸缩外壁。

5、根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于：所述顶盖(2)具有贯穿顶盖(2)的安装孔以及设置在顶盖(2)内二个独立的第一流道(22)和第二流道(21)，该第一流道(22)由与顶盖底面相通的进液流道、外环形道以及沿顶盖径向并与顶盖外周相通的八个以上的出液流道构成，第二流道(21)也由与顶盖底面相通的进液流道、内环形道以及沿顶盖轴向分布并与顶盖上端面相通的三个以上出液流道构成。