[发明专利]彩色滤光片及其制作方法

权利要求书

1.一种彩色滤光片，其特征在于，包括：

一基板，具有多个凹槽，其中该些凹槽具有底切轮廓；

一黑色矩阵层，配置于两相邻该些凹槽之间的该基板上，且每个黑色矩阵层与其对应的两相邻凹槽部分重叠；以及

一彩色滤光层，填入于该些凹槽之中，形成多个彼此分离的滤光薄膜。

2.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，各该凹槽具有多个深度，该深度是以该基板与该黑色矩阵层的接触面为基准，且该些凹槽的该些深度彼此实质上相同。

3.如权利要求2所述的彩色滤光片，其特征在于，各该滤光薄膜的最大厚度小于该黑色矩阵层的厚度与各该凹槽的该深度的总和。

4.如权利要求2所述的彩色滤光片，其特征在于，该深度实质上小于等于该黑色矩阵层的厚度。

5.如权利要求2所述的彩色滤光片，其特征在于，该深度实质上介于0.5微米至2微米之间。

6.如权利要求2所述的彩色滤光片，其特征在于，该深度实质上为1微米。

7.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，该彩色滤光层的厚度实质上大于该黑色矩阵层的厚度。

8.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，该些滤光薄膜的表面，除了黑色矩阵层侧壁和彩色颜料接触部分以外，实质上为平坦表面。

9.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，各该凹槽邻近该基板表面的边缘具有一切线，该切线与该基板表面形成锐角。

10.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，该些凹槽具有不同的深度，且该些滤光薄膜的表面实质上位于同一平面上。

11.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，该些凹槽具有一第一深度、一第二深度以及一第三深度，且该些滤光薄膜包括一红色滤光薄膜、一绿色滤光薄膜以及一蓝色滤光薄膜，该红色滤光薄膜填入具有该第一深度的凹槽，该绿色滤光薄膜填入具有该第二深度的凹槽，该蓝色滤光薄膜填入具有该第三深度的凹槽。

12.如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，该第一深度与该第二深度实质上小于该第三深度，且该第一深度实质上等于该第二深度。

13.如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，该第一深度与该第二深度实质上大于该第三深度，且该第一深度实质上等于该第二深度。

14.如权利要求11所述的彩色滤光片，其特征在于，该第一深度小于该第二深度，且该第二深度小于该第三深度。

15.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，另包括一透明电极层，覆盖该彩色滤光层以及该黑色矩阵层。

16.如权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，另包括一主动数组层，配置于该彩色滤光层以及该黑色矩阵层上方。

17.一种彩色滤光片的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，该基板上已形成一黑色矩阵层，该黑色矩阵层在该基板上围出多个像素区域；

以该黑色矩阵层为罩幕，于该基板的该些像素区域中分别形成一具有底切轮廓的凹槽，其中每个黑色矩阵层与其对应的两相邻凹槽部分重叠；以及

于该黑色矩阵层的表面进行一改质处理；以及

于该些凹槽中填入一彩色滤光层，且该彩色滤光层藉由该黑色矩阵层于该些凹槽处自动分离，而于该基板上形成多个滤光薄膜。

18.如权利要求17所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，在该基板的该些像素区域中上形成该些凹槽的方法包括对该基板进行一湿式蚀刻制程。

19.如权利要求18所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，该湿式蚀刻制程中包括使用氢氟酸。

20.如权利要求17所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，该改质处理包括进行一等离子改质制程。

21.如权利要求17所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，在该些凹槽中填入该彩色滤光层的方法包括喷墨印刷制程，以于每一像素区域的凹槽内填入彩色颜料。

22.如权利要求17所述的彩色滤光片的制作方法，其特征在于，该些滤光薄膜的表面实质上位于同一平面上。