[发明专利]具有化学排序的磁性层的磁记录介质有效

专利信息
申请号: 200810190890.1 申请日: 2008-11-28
公开(公告)号: CN101599275A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: B·卢 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/64 分类号: G11B5/64;G11B5/66;H01F10/08
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 顾 敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 化学 排序 磁性 记录 介质
【权利要求书】:

1.一种薄膜结构,包括:

具有L10结构的磁性层;

邻接于该磁性层的籽晶层,该籽晶层具有L10结构和(001)取向,该籽晶 层为非磁性的并具有比该磁性层更低的熔化温度;和

下底层,其位置使得该籽晶层位于该下底层和磁性层之间,该下底层具有 (100)取向。

2.如权利要求1所述的结构,还包括保护润滑层,其位置使得该磁性层位 于该保护润滑层和该籽晶层之间。

3.如权利要求1所述的结构,其特征在于,该磁性层为FePt,FePd,CoPd 和CoPt中的一种。

4.如权利要求1所述的结构,其特征在于,该籽晶层为具有L10结构的AlTi, CuTi,MgIn,PtZn,CuAu和CdPd中的一种。

5.如权利要求1所述的结构,还包括第二籽晶层,其中该磁性层位于第一 所述籽晶层和该第二籽晶层之间。

6.如权利要求5所述的结构,还包括第二磁性层,其中该第二磁性层的位 置使得第二籽晶层位于第一所述磁性层和该第二磁性层之间。

7.如权利要求6所述的结构,还包括第三籽晶层,其位置使得该第二磁性 层位于该第二籽晶层和该第三籽晶层之间。

8.一种磁记录介质,包括:

衬底;

位于该衬底上的下底层,该下底层具有(100)取向;

位于该下底层上的籽晶层,该籽晶层具有L10结构;以及

具有L10结构并且邻接于该籽晶层的磁性层,

其中籽晶层为非磁性的并具有比磁性层更低的熔化温度。

9.如权利要求8所述的磁记录介质,其特征在于,该磁性层为FePt,FePd, CoPd和CoPt中的一种。

10.如权利要求8所述的磁记录介质,其特征在于,该籽晶层为AlTi,CuTi, MgIn,PtZn,CuAu和CdPd中的一种。

11.如权利要求8所述的磁记录介质,还包括第二籽晶层,其中该磁性层 位于第一所述籽晶层和该第二籽晶层之间。

12.如权利要求11所述的磁记录介质,还包括第二磁性层,其中该第二磁 性层的位置使得该第二籽晶层位于第一所述磁性层和该第二磁性层之间。

13.如权利要求12所述的磁记录介质,还包括第三籽晶层,其位置使得该 第二磁性层位于该第二籽晶层和该第三籽晶层之间。

14.一种制造薄膜结构的方法,包括:

提供具有L10结构的籽晶层;

在该籽晶层上提供具有L10结构的磁性层;以及

在具有(100)取向的下底层上外延生长该籽晶层,

其中籽晶层为非磁性的并具有比磁性层更低的熔化温度。

15.如权利要求14所述的方法,还包括提供邻接于第一所述磁性层的第二 籽晶层。

16.如权利要求15所述的方法,还包括提供邻接于该第二籽晶层的第二磁 性层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希捷科技有限公司,未经希捷科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810190890.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top