[发明专利]清洗基板的设备和方法

权利要求书

1、一种基板清洗设备，包括：

支撑板，用于支撑基板，所述支撑板可以旋转；

光束发生器，用于发射光，所述光用来生成清洗基板的冲击波；

透镜，用于将由所述光束发生器发送的光聚焦到所述基板上；

用于保护基板的防护单元，位于透镜的焦点和基板之间，所述防护单元临近焦点的一部分可以切换。

2、根据权利要求1所述的基板清洗设备，其中所述防护单元包括：

相对的设置在所述基板上的防护罩，当从顶部观察时，所述防护罩覆盖了基板的一部分；以及

与所述防护罩啮合并移动所述防护罩的移动单元。

3、根据权利要求2所述的基板清洗设备，其中所述防护罩成形于圆形或椭圆形。

4、根据权利要求3所述的基板清洗设备，其中所述防护罩被横越所述防护罩的中心点的至少一条线分成多个防护区域，所述防护区域的中心角彼此相同，并且所述中心角与所述防护罩的旋转角度相同。

5、根据权利要求4所述基板清洗设备，其中，所述移动单元包括：

与所述防护罩的顶部表面啮合和的连接单元；以及

与所述连接单元啮合并旋转所述防护罩的旋转驱动单元。

6、根据权利要求3所述基板清洗设备，其中，所述移动单元包括：

与所述防护罩的顶部表面啮合并旋转所述防护罩的旋转单元；以及

与所述旋转单元啮合的固定单元。

7、根据权利要求2所述基板清洗设备，其中，当从顶部观察时，所述防护罩位于通过横跨基板的中心点对分所述基板的线的一侧。

8、根据权利要求2所述基板清洗设备，进一步包括：在所述基板上临近所述防护单元并用于吸收粒子的吸收单元。

9、一种基板清洗设备，包括：

支撑基板的支撑单元；以及

生成用来清洗基板的冲击波并将所述冲击波集中到基板上的清洗单元，其中，所述清洗单元包括：

利用激光束在基板上生成冲击波的冲击波生成器；以及

在激光束聚焦的焦点和基板之间面向基板的防护罩，所述防护罩可以旋转。

10、根据权利要求9所述基板清洗设备，其中，当从顶部观察时，所述防护罩覆盖了基板的一部分，并且所述防护罩成形于圆形或椭圆形。

11、根据权利要求9所述基板清洗设备，其中，当从顶部观察时，所述防护罩位于通过横跨基板的中心点对分所述基板的线的一侧。

12、根据权利要求9所述基板清洗设备，进一步包括：在所述基板上临近所述防护单元并用于吸收粒子的吸收单元。

13、一种基板清洗方法，包括：

将基板放置在支撑板上；

将防护罩放置在所述基板上；

将光聚焦到临近所述防护罩的点上以在基板上生成冲击波；以及

当变换所述防护罩的临近光聚焦的焦点的部分时，利用所述冲击波清洗所述基板。

14、根据权利要求13所述的基板清洗方法，其中在基板的清洗过程中，所述防护罩旋转。

15、根据权利要求14所述的基板清洗方法，其中所述防护罩被横越所述防护罩中心点的至少一条线分成多个防护区域，所述防护区域的中心角彼此相同，并且所述中心角与所述防护罩的旋转角度相同；以及

所述基板的清洗过程中包括：当在每个预定单元时间切换临近所述焦点的防护区域时，以与所述防护区域的中心角相同的角度反向旋转防护罩。

16、根据权利要求14所述的基板清洗方法，其中，在基板清洗的过程中，所述防护罩保持在一个方向上旋转。

17、根据权利要求13所述的基板清洗方法，其中，基板的清洗过程包括向上吸收通过冲击波由基板上分离的外来物质，并将吸收到的外来物质排放到外侧。