[发明专利]成形坩埚和具有成形坩埚的蒸发装置

说明书

技术领域

本发明一般性地涉及薄膜形成装置以及用于薄膜形成的蒸发装置中使 用的坩埚。具体地，本发明涉及用于蒸发合金或金属的坩埚和蒸发装置以 及蒸发方法。更特别地，本发明涉及用于蒸发装置的坩埚以及用于制造有 机发光二极管的蒸发装置。

背景技术

蒸发装置可以用于基板上材料的薄膜涂层。例如，可以利用蒸发装置 来施加金属膜涂层(例如提供大面板显示器的电容器或柔性基板或薄片上 的保护层)。

具体地，有机蒸发装置是有机发光二极管(OLED)的某些制造方法 所必需的设备。OLED是一种特殊类型的发光二极管，其中发射层包括特 定有机化合物的薄膜。这种系统可用于电视机屏幕、计算机显示器、便携 式系统屏幕等等。OLED还可以用于普通空间照明。OLED显示器所能达 到的颜色、亮度和视角的范围要大于传统的LCD显示器，原因是OLED 像素直接发光并且不需要背景光。因此，OLED显示器的能量消耗明显低 于传统LCD显示器。而且，OLED可被印刷在柔性基板上这一事实开启了 OLED的新应用领域，例如卷式显示器甚至嵌入衣服中的显示器。

一般而言，OLED的发射层和导电层的叠层被电极夹在中间。OLED 的功能取决于例如电极的涂层厚度。因此，在OLED的制造中，使具有电 极材料的涂层的涂覆速率介于预定的容许范围之内是重要的。通常期望涂 层厚度尽可能均匀。此外，当用例如金属的材料涂覆基板时，已沉积在基 板上的层特别是有机材料层不应被例如等离子体辐射的蒸发过程副作用所 损坏。特别地，与传统蒸发过程中使用的无机材料相比，有机材料更易于 损坏。

发明内容

鉴于上述情况，本发明提供了一种用于蒸发装置的坩埚，所述坩埚具 有长度、宽度和厚度，所述坩埚具有用于接受和蒸发待蒸发材料的蒸发侧 以及位于所述蒸发侧背面的背侧，其中蒸发侧和背侧均具有不平坦表面。 本发明还提供了具有一个或更多个这种坩埚的蒸发装置。

根据本发明的一个方面，提供了一种用于蒸发装置的坩埚，所述坩埚 具有长度、宽度和厚度，其中所述坩埚包括用于接受和蒸发待蒸发材料的 蒸发侧和位于蒸发侧反面的背侧，蒸发侧和背侧均具有非平坦表面。

根据本发明的另一个方面，提供了一种蒸发装置，该蒸发装置具有一 个或更多个本发明的坩埚。

根据另一个方面，本发明提供了一种用于蒸发装置的坩埚，所述坩埚 由第一材料制成并具有用于接受和蒸发待蒸发材料的蒸发侧，其中所述坩 埚还包括由第二材料制成的构件。通常，第二材料的电导率小于第一材料 的电导率。更一般地，第二材料是绝缘体。通常，所述构件位于坩埚的蒸 发侧。通常，所述构件位于坩埚中部。通常，所述构件与坩埚形状匹配接 触。

通过从属权利要求、说明书和附图，可以清楚了解可与上述实施方式 结合的进一步的优点、特征、方面以及细节。

本发明实施方式还涉及用于实现所公开方法的装置，这些装置包括用 于执行所述方法步骤的装置部件。这些方法步骤可以通过硬件构件、由适 当的软件编程的计算机、通过上述两种方式的任意组合或任何其它方式来 执行。此外，实施方式还涉及所述装置的操作方法或所述装置的制造方 法。其包括用于实现设备功能的方法步骤或制造设备部件的方法步骤。

附图说明

本发明的上述和其它更具体的方面中的一部分将在下面的描述中进行 描述，其中一部分参考附图进行说明。

图1A、1B、1C示出了现有技术已知的第一坩埚；

图2A、2B、2C示出了现有技术已知的坩埚的第二种实施方式；

图3-11示出了本发明的坩埚的各种实施方式沿其宽度方向的剖面图；

图12示出了本发明的坩埚的一种实施方式的示意图；

图13A、13B、13C、14A、14B和14C示出了本发明的坩埚的实施方 式沿其长度方向的剖面图；

图15A和15B示出了本发明的坩埚的一种实施方式的示意图；

图16A和16B示出了本发明的坩埚的另一种实施方式的示意图；

图16C示出了图16A和16B的实施方式的剖面图；

图17A为本发明的坩埚的剖面图；

图17B和17C为图17A所示的坩埚的剖面图；

图17D为图17A-17C的坩埚的等效电路图(以便于更好地理解本发 明)；

图17E为本发明的坩埚的剖面图；

图17F和17G为图17E所示坩埚的剖面图；