[发明专利]成形坩埚和具有成形坩埚的蒸发装置

权利要求书

1.一种用于蒸发装置的坩埚(100)，所述坩埚具有长度、宽度和厚 度，所述坩埚具有用于接受和蒸发待蒸发材料(520)的蒸发侧(200)以 及位于所述蒸发侧背面的背侧(300)，其中蒸发侧和背侧均具有不平坦 表面。

2.如权利要求1的坩埚，其中所述蒸发侧具有凹部(210，215)和/或 凸部(220，225)。

3.如权利要求2的坩埚，其中所述蒸发侧中的凹部(210，215)具有 凹形。

4.如权利要求2或3的坩埚，其中所述蒸发侧上的凸部(220，225) 具有凸形。

5.如权利要求2-4中任一项的坩埚，其中所述凹部和/或凸部沿着坩埚 的宽度方向延伸。

6.如权利要求2-5中任一项的坩埚，其中所述凹部和/或凸部沿着坩埚 的长度方向延伸。

7.如权利要求2-6中任一项的坩埚，其中所述凹部和/或凸部延伸经过 总蒸发侧的至少50％。

8.如权利要求1-7中任一项的坩埚，其中所述背侧具有凹部(310， 315)和/或凸部。

9.如权利要求8的坩埚，其中所述背侧中的凹部(310，315)具有凹 形。

10.如权利要求8或9的坩埚，其中所述凹部和/或凸部沿着坩埚的宽 度方向在背侧上延伸。

11.如权利要求8-10中任一项的坩埚，其中所述背侧上的凹部和/或凸 部沿着坩埚的长度方向延伸。

12.如权利要求8-11中任一项的坩埚，其中所述凹部和/或凸部延伸经 过总背侧的至少50％。

13.如权利要求1-12中任一项的坩埚，其中蒸发侧表面与背侧表面之 间的厚度在坩埚沿其宽度和/或长度方向的中部最小。

14.如权利要求1-13中任一项的坩埚，其中所述坩埚能够被加热到高 达1700℃的温度。

15.如权利要求1-14中任一项的坩埚，其中所述坩埚由导电陶瓷制 成。

16.如权利要求1-15中任一项的坩埚，其中所述坩埚(100)还包括用 于连接到功率源的接触区域(405，410)。

17.如权利要求1-16中任一项的坩埚，其中所述坩埚的长度为5-50 cm，宽度为1-10cm。

18.如权利要求1-17中任一项的坩埚，其中所述坩埚的厚度在坩埚宽 度方向上的中部最小，并且向着坩埚边缘连续增大。

19.如权利要求18的坩埚，其中所述厚度在从中部开始相对于坩埚总 宽度的±10％的区域中增大。

20.如权利要求1-19中任一项的坩埚，其中所述坩埚具有深度为2-8 mm的凹部。

21.如权利要求1-20中任一项的坩埚，其中所述坩埚具有高度为2-8 mm的凸部。

22.如权利要求1-21中任一项的坩埚，其中所述蒸发侧具有其中嵌有 凹部(210)的凸部(220)。

23.如权利要求22的坩埚，其中所述凹部的深度大于所述凸部的高 度。

24.如权利要求1-23中任一项的坩埚，其中所述背侧上设置有两个凹 部(310，315)。

25.如权利要求1-24中任一项的坩埚，其中所述蒸发侧具有凹部 (210，215)并且所述背侧具有凹部(310，315)，其中这两个凹部被设 置成使坩埚的厚度在坩埚中部最小。

26.如权利要求1-25中任一项的坩埚，其中所述蒸发侧和背侧具有结 构化表面以使坩埚具有两个厚度最小的位置。

27.如权利要求1-26中任一项的坩埚，所述坩埚具有对称形状。