[发明专利]基板、磁性记录介质及其制造方法以及磁性存储设备

权利要求书

1、一种用于垂直磁性记录介质的基板，

其中所述基板由至少一种非磁性材料制成，并且

所述基板的表面轮廓曲线的倾角为2.0度以下，或者所述基板的周 期在83nm以下至30nm以下范围内的表面粗糙度为0.15nm以下。

2、根据权利要求1所述的基板，其中：

所述基板的周期在59nm以下至40nm以下范围内的所述表面粗糙度 为0.15nm以下。

3、根据权利要求1所述的基板，其中：

所述基板的周期在50nm以下范围内的所述表面粗糙度为0.15nm以 下。

4、根据权利要求1所述的基板，其中：

所述基板的所述表面被沿轨道方向进行机械加工。

5、根据权利要求2所述的基板，其中：

所述基板的所述表面被沿轨道方向进行机械加工。

6、根据权利要求3所述的基板，其中：

所述基板的所述表面被沿轨道方向进行机械加工。

7、一种垂直磁性记录介质，该垂直磁性记录介质包括：

非磁性基板；以及

形成在所述基板的表面上的磁性记录结构，该磁性记录结构至少具 有软磁性底层、中间层和磁性层，

其中，所述基板的表面轮廓曲线的倾角为2.0度以下，或者所述基 板的周期在83nm以下至30nm以下范围内的表面粗糙度为0.15nm以下。

8、根据权利要求7所述的磁性记录介质，其中：

所述基板的周期在59nm以下至40nm以下范围内的所述表面粗糙度 为0.15nm以下。

9、根据权利要求7所述的磁性记录介质，其中：

所述基板的周期在50nm以下范围内的所述表面粗糙度为0.15nm以 下。

10、根据权利要求7所述的磁性记录介质，其中：

所述基板的所述表面被沿轨道方向进行机械加工。

11、根据权利要求8所述的磁性记录介质，其中：

所述基板的所述表面被沿轨道方向进行机械加工。

12、根据权利要求9所述的磁性记录介质，其中：

所述基板的所述表面被沿轨道方向进行机械加工。

13、一种垂直磁性记录介质的制造方法，该制造方法包括：

沿轨道方向对由非磁性材料制成的基板的表面进行机械加工；

在所述机械加工之后清洗所述基板的表面；以及

在所述基板的所述表面上形成磁性记录结构，所述磁性记录结构至 少具有软磁性底层、内层以及磁性层，其中：

所述基板的表面轮廓曲线的倾角为2.0度以下，或者所述基板的周 期在83nm以下至30nm以下范围内的表面粗糙度为0.15nm以下。

14、根据权利要求13所述的磁性记录介质的制造方法，其中：

所述基板的周期在59nm以下至40nm以下范围内的所述表面粗糙度 为0.15nm以下。

15、根据权利要求13所述的磁性记录介质的制造方法，其中：

所述基板的周期在50nm以下范围内的所述表面粗糙度为0.15nm以 下。