[发明专利]金属反射壁的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810099163.4 申请日: 2008-05-14
公开(公告)号: CN101308800A 公开(公告)日: 2008-11-19
发明(设计)人: 竹本理史;高桥秀二;若松富夫;小川义辉 申请(专利权)人: 夏普株式会社;富士机工电子株式会社
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L33/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李香兰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属 反射 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种金属反射壁的制造方法,其特征在于:

包括在金属板上形成空腔结构的工序,其中,在上述金属板的背面层叠形成有基板,上述空腔结构的侧壁为反射壁;

上述工序包括第一步骤和第二步骤,其中,在第一步骤中,在上述金属板的正面形成第一掩膜,该第一掩膜具有与上述空腔结构的开口部对应的掩膜开口部;在第二步骤中,根据上述第一掩膜对上述金属板实施湿法蚀刻从而在该金属板的侧壁形成反射壁;

在上述第二步骤中,在进行上述湿法蚀刻的过程中,以覆盖上述空腔结构的开口部附近的方式,进一步通过挤压加工沿着由上述湿法蚀刻所形成的反射壁向下折弯上述第一掩膜。

2.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

在上述第二步骤中,首先进行上述湿法蚀刻,在上述基板露出之前依次反复进行上述湿法蚀刻和上述挤压加工。

3.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

上述挤压加工是挤压弹性体的加工。

4.根据权利要求3所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

采用橡胶作为上述弹性体。

5.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

上述第一掩膜的厚度是在上述第二步骤的挤压加工时的压力下可使上述第一掩膜发生塑性变形并折弯的厚度,其中,上述压力是不损伤上述基板的压力。

6.根据权利要求5所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

上述第一掩膜的厚度是在上述第二步骤的湿法蚀刻时的水压下上述第一掩膜的经上述挤压加工所折弯的折弯部可保持固定的厚度。

7.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

上述掩膜开口部具有在角部设置有切口的四边形状。

8.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于,

上述工序还包括:第三步骤,在第二步骤之后,从已形成上述反射壁的上述金属板上剥离上述第一掩膜;

第四步骤,对上述金属板的已实施上述湿法蚀刻的面实施第一金属镀敷,其中,上述金属板已被剥离了上述第一掩膜;

第五步骤,除去在上述金属板上形成的第一金属镀敷中的、由上述反射壁包围的底面上的第一金属镀敷,形成第二掩膜;以及

第六步骤,根据上述第二掩膜对上述金属板实施湿法蚀刻。

9.根据权利要求8所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

作为上述第一金属镀敷的材质,采用镍、金、锡、铅或者其合金。

10.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

上述金属板由铜制成。

11.根据权利要求1所述的金属反射壁的制造方法,其特征在于:

作为上述第一掩膜的材质,采用镍、金、锡、铅或者其合金。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社;富士机工电子株式会社,未经夏普株式会社;富士机工电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810099163.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top