[发明专利]沉积设备

说明书

技术领域

本发明总体上涉及用于在基板上形成薄膜的沉积设备，特别是提供有线型蒸发源的沉积设备。

背景技术

在平面显示装置中，近些年采用有机电致发光元件(有机EL元件：EL代表电致发光)的显示装置已经引起人们的关注。采用有机电致发光元件的显示装置(在下文，也称为“有机EL显示器”)的优点是例如宽视角和低功耗等，这是因为它们是发光显示器，即它们不需要背光。

有机EL显示器中采用的有机电致发光元件通常构造成在上电极和下电极(阳极和阴极)之间设置由有机材料制造的有机层。正电压和负电压分别施加给阳极和阴极，以分别从阳极和阴极给有机层注入空穴和电子。因此，空穴和电子在有机层中彼此复合来发光。

有机电致发光元件的有机层是多层结构，包括空穴注入层、空穴传输层、发射层和电荷注入层。形成各层的有机材料由于抗水性低而不能采用湿法工艺。因为这个原因，为了形成有机层，各层依次形成在有机电致发光元件的元件基板(通常为玻璃基板)上，以提供所要求的多层结构。另外，为了色彩化处理，对应于R(红)、G(绿)和B(蓝)色彩成分的三种有机材料通过采用真空薄膜形成技术的真空沉积法沉积在各个不同的像素位置，由此形成有机层。

真空沉积设备用于形成有机层。真空室底层面积的增加导致真空沉积设备成本的剧增，并且增加设备的安装面积，由此增加安装成本。因此，从成本上看增加了负面因素。另外，真空室体积的增加，增加了抽真空的必要时间，因此倾向于降低生产效率。

为了应对其上通过真空沉积形成膜并且具有多层有机层的基板(下文称为“待加工基板”)的扩大，近些年已经采用线型长蒸发源。另外，提出了一种沉积设备，其中在真空室中提供要排列的多个这样的蒸发源(见日本专利申请公开2003-157973号)。

发明内容

如果多个线型蒸发源提供成如上所述的排列方式，则相邻蒸发源之间的间隔减少，以使真空室的底层面积和安装面积减小。然而，相邻蒸发源之间的间隔减小和真空室的底层面积减小将减少在真空室中维护沉积设备的工作空间。沉积设备的维护工作的实例包括：蒸发材料填入蒸发源中的填充工作；膜厚度传感器(其采用例如晶体振荡器)的置换工作；以及粘合保护板和限制板的清洗工作，该粘合保护板适用于防止蒸发材料粘合到不需要蒸发材料的部分，该限制板适用于限制沉积范围。

所希望的是提供一种沉积设备，该沉积设备能够提供满意的维护性能而不在线型蒸发源之间设定宽的安装间隔。

根据本发明的实施例，所提供的沉积设备包括：多个线型蒸发源，提供成排列在预定的方向上；和运动与支撑机构，用于支撑该多个线型蒸发源以便在蒸发源的排列方向和/或纵向方向上可单独运动。

在根据本发明实施例的沉积设备中，通过在其任何排列方向和纵向方向上运动蒸发源，在真空室中可以扩大用于维护的空间。

根据本发明，通过在维护期间根据需要运动每个蒸发源可以保证维护所需的宽阔空间，而无需在真空室中的蒸发源之间设定宽的安装间隔。

附图说明

图1是图示根据本发明实施例的沉积设备的示范性构造的示意图；

图2A和2B是图示根据本发明实施例的沉积设备主要部分的示意图；

图3通过实例的方式图示了线型蒸发源的运动；

图4通过另一个实例的方式图示了线型蒸发源的运动；

图5通过实例的方式图示了典型蒸发源的构造；

图6A和6B图示了线型蒸发源的第一构造实例；

图7A和7B图示了线型蒸发源的第二构造实例；

图8A和8B图示了线型蒸发源的第三构造实例；

图9A和9B图示了线型蒸发源的第四构造实例；

图10图示了坩埚单元(crucible unit)的构造实例；和

图11A和11B图示了线型蒸发源的第五构造实例。

具体实施方式

在下文，将参照附图详细描述本发明的实施例。

图1是图示根据本发明实施例的沉积设备的示范性构造的示意图。如图所示的沉积设备1用于在采用例如有机电致发光元件制造显示装置中在由例如玻璃基板制造的待加工基板2上沉积有机层。

沉积设备1装备有未示出的真空室。沉积设备1的真空室在内部提供有适用于传送待加工基板2的传送装置(未示出)和多个线型蒸发源3。传送装置通过在Y方向上运动待加工基板2(水平运动)来在Y方向上相对运动待加工基板2和线型蒸发源3，而在相对于线型蒸发源3的位置上水平支撑待加工基板2。