[发明专利]具有电极排列的基板卡匣无效
申请号: | 200810086272.2 | 申请日: | 2008-03-24 |
公开(公告)号: | CN101545101A | 公开(公告)日: | 2009-09-30 |
发明(设计)人: | 杨正安;何建立;叶公旭;黄明鸿 | 申请(专利权)人: | 东捷科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/44 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 电极 排列 板卡 | ||
技术领域
本发明与置放板状物料的卡匣有关,特别是指一种具有电极排列的基板卡匣。
背景技术
公知的基板卡匣,主要是以多片直立置放于一卡匣内,或是多层迭置于一卡匣内,而卡匣内部则是具有对应的容置格或容置空间,可供各个基板置放。
然而,现今的非晶硅薄膜太阳能电池,其制造过程中的非晶硅薄膜是为关键,目前普遍的制造方式,是由等离子体辅助化学气相沉积法(Plasma-Enhance Chemical Vapor Deposition,PECVD)来制造成形的。现今的做法,大多以单片基板置入于一工艺腔内,再进行化学气相沉积工艺,目前尚未有一次同时以多片进行化学气相沉积的工艺,相对的,也尚未有适合此种工艺而可承载多个基板的卡匣。
发明内容
本发明的目的在于提供一种具有电极排列的基板卡匣,其可承载多片基板,并适用于化学气相沉积的工艺,且其内部的电极排列适合多个基板置入。
为实现上述目的,本发明提供的具有电极排列的基板卡匣,用以承接复数基板,该基板卡匣包含有:
一架体,底部具有至少一导电块,该导电块具有复数第一槽以及复数第二槽彼此平行,且第一槽与第二槽相隔预定距离交替设置;该架体顶部具有复数固定件,对应位于该些第一槽以及第二槽的上方,其中每一第二槽内设有绝缘件;
复数第一电极板,分别以底缘嵌置于该些第一槽,且顶缘固定于对应的该些固定件;
复数第二电极板,分别以底缘固定于该些绝缘件,且顶缘固定于对应的该些固定件;以及
复数支撑件,设置于各该第一电极板的底段两面,以及设置于各该第二电极板的底段两面,该些支撑件与该些固定件上下相对且形成一限制空间可供基板置入于其间,该些支撑件即承接该些基板。
所述的具有电极排列的基板卡匣,其中:该些绝缘件具有一容置槽,该些第二电极板嵌置于该些容置槽中。
所述的具有电极排列的基板卡匣,其中:该固定件的两侧分别向下延伸一挡檐,各该第一电极板以及各该第二电极板位于一该固定件的二挡檐之间。
所述的具有电极排列的基板卡匣,其中:该些第一电极板以及该些第二电极板中,每一电极板的两面分别置入一基板时,一该电极板两面的基板受到该固定件的二檐部所限位。
所述的具有电极排列的基板卡匣,其中:各该支撑件的外侧向上延伸一挡墙。
换言之,本发明的具有电极排列的基板卡匣,用以承接复数基板,该基板卡匣包含有:一架体,底部具有一导电块,该导电块具有复数第一槽以及复数第二槽彼此平行,且第一槽与第二槽相隔预定距离交替设置;该架体顶部具有复数固定件,对应位于该些第一槽以及第二槽的上方,其中每一第二槽内设有绝缘件;复数第一电极板,分别以底缘嵌置于该些第一槽,且顶缘固定于对应的该些固定件;复数第二电极板,分别以底缘固定于该些绝缘件,且顶缘固定于对应的该些固定件;以及复数支撑件,设置于各该第一电极板的底段两面,以及设置于各该第二电极板的底段两面,该些支撑件与该些固定件上下相对且形成一限制空间可供基板置入于其间,该些支撑件即承接该些基板。由此,其内部的电极排列适合多个基板置入,并可承载多片基板,适用于化学气相沉积的工艺。
本发明的效果是:
一、可承载多片基板,并适用于化学气相沉积的工艺。
二、于内部设置复数电极板,并于电极板两侧设置,而可适合多个基板置入,进而可进行多片式的化学气相沉积工艺。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例的前视示意图。
图2是本发明一较佳实施例的示意图,显示导电块与绝缘件的关系。
图3是本发明一较佳实施例的立体示意图,显示卡匣底部与该第二电极板间的连接关系。
图4是本发明一较佳实施例的立体示意图,显示一第二电极板的型态。
图5是本发明一较佳实施例的使用状态图,显示置入基板后的状态。
附图中主要组件符号说明:
10 具有电极排列的基板卡匣
11 架体
12 导电块
14 第一槽
15 第二槽
16 固定件
17 绝缘件
171 容置槽
18 挡檐
21 第一电极板
31 第二电极板
41 支撑件
42 挡墙
99 基板
具体实施方式
为了详细说明本发明的构造及特点所在,举以下的一较佳实施例并配合附图说明如后,其中:
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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