[发明专利]一种具有内增益的紫外探测器及制备方法有效
| 申请号: | 200810041159.2 | 申请日: | 2008-07-30 |
| 公开(公告)号: | CN101335308A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
| 发明(设计)人: | 王玲;许金通;袁永刚;包西昌;张文静;李超;张燕;李向阳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/105;H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 具有 增益 紫外 探测器 制备 方法 | ||
1.一种具有内增益的紫外探测器,它由衬底(1)、缓冲层(2)、三层外延 材料层(3、4、5)、p型接触电极(6)、n型接触电极(8)、第一钝化层(7)、 第二钝化层(9)、加厚电极(10)和互联电极(11)构成,其特征在于:
a.衬底(1)采用的材料是双面抛光的蓝宝石、Si或SiC;
b.缓冲层(2)是在衬底(1)上通过外延生长的氮化铝或氮化镓薄膜, 厚度为0.5um至3um;
c.在缓冲层(2)上形成的外延材料n型AlxGa1-xN材料层(3)是 n-AlxGa1-xN:Si(0<x<1),它的厚度为0.1um至0.3um,掺杂浓度为1016/cm3~ 1018/cm3;
d.在外延材料n型AlxGa1-xN材料层(3)上形成的外延材料i型GaN材料 层(4)是i-GaN,它的厚度为0.1um至0.6um,载流子浓度为1015/cm3;
e.在外延材料i型GaN材料层(4)上形成的外延材料p-GaN材料层(5) 是p-GaN:Mg,它的厚度为0.5um至1um,掺杂浓度为1018/cm3~1019/cm3;
f.在由三层外延材料层经ICP刻蚀台面成结后形成的台面上形成的第一 钝化层(7)和第二钝化层(9)是利用PECVD技术生长的SiO2或Si3N4,第 一钝化层(7)的厚度为1500埃至2500埃,第二钝化层(9)的厚度为800埃 至1000埃;
g.与外延材料p-GaN材料层(5)连接的p型接触电极(6)是电子束蒸 发淀积的Ni/Au/Ni/Au;
h.与外延材料n型AlxGa1-xN材料层(3)连接的n型接触电极(8)为电 子束蒸发淀积的Ti/Al/Ti/Au;
i.与n型接触电极(8)连接的加厚电极(10)和与p型接触电极(6)连 接的互联电极(11)是淀积生长的双层金属Cr/Au。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810041159.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





