[发明专利]一种具有内增益的紫外探测器及制备方法有效

专利信息
申请号: 200810041159.2 申请日: 2008-07-30
公开(公告)号: CN101335308A 公开(公告)日: 2008-12-31
发明(设计)人: 王玲;许金通;袁永刚;包西昌;张文静;李超;张燕;李向阳 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/105;H01L31/18
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 代理人: 郭英
地址: 20008*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 增益 紫外 探测器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有内增益的紫外探测器,它由衬底(1)、缓冲层(2)、三层外延 材料层(3、4、5)、p型接触电极(6)、n型接触电极(8)、第一钝化层(7)、 第二钝化层(9)、加厚电极(10)和互联电极(11)构成,其特征在于:

a.衬底(1)采用的材料是双面抛光的蓝宝石、Si或SiC;

b.缓冲层(2)是在衬底(1)上通过外延生长的氮化铝或氮化镓薄膜, 厚度为0.5um至3um;

c.在缓冲层(2)上形成的外延材料n型AlxGa1-xN材料层(3)是 n-AlxGa1-xN:Si(0<x<1),它的厚度为0.1um至0.3um,掺杂浓度为1016/cm3~ 1018/cm3

d.在外延材料n型AlxGa1-xN材料层(3)上形成的外延材料i型GaN材料 层(4)是i-GaN,它的厚度为0.1um至0.6um,载流子浓度为1015/cm3

e.在外延材料i型GaN材料层(4)上形成的外延材料p-GaN材料层(5) 是p-GaN:Mg,它的厚度为0.5um至1um,掺杂浓度为1018/cm3~1019/cm3

f.在由三层外延材料层经ICP刻蚀台面成结后形成的台面上形成的第一 钝化层(7)和第二钝化层(9)是利用PECVD技术生长的SiO2或Si3N4,第 一钝化层(7)的厚度为1500埃至2500埃,第二钝化层(9)的厚度为800埃 至1000埃;

g.与外延材料p-GaN材料层(5)连接的p型接触电极(6)是电子束蒸 发淀积的Ni/Au/Ni/Au;

h.与外延材料n型AlxGa1-xN材料层(3)连接的n型接触电极(8)为电 子束蒸发淀积的Ti/Al/Ti/Au;

i.与n型接触电极(8)连接的加厚电极(10)和与p型接触电极(6)连 接的互联电极(11)是淀积生长的双层金属Cr/Au。

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