[发明专利]一种纳米结构的软模板制作方法

权利要求书

1.一种纳米结构的模板制作方法，其特征在于：采用多孔阳极氧化铝(AAO)作为母模板，通过聚合物固化后复制出软模板。

2.按照权利要求1所要求的多孔氧化铝，其特征要求：

1)孔径介于10～500nm，分布均匀，陡直。

2)多孔氧化铝为通孔或为不通孔。

3)孔深度为50nm～200μm。

3.按照权利要求1所要求的制作工艺，其特征在于：

1)多孔氧化铝母模板是通过气相CVD沉积一层纳米厚度的抗粘层，来减小固化后的聚合物与AAO脱模阻力。

2)将184-PDMS预聚体与固化剂按10∶1比例混合后，再加入一定比例的甲苯溶液，除气30min后涂布在AAO上，再除气5min；也可将h-PDMS液体涂布在AAO上，60℃固化30min。

3)在上述基础上再涂布上一层除过气的PDMS，100℃固化1h。

4)脱模，得到具有高复型度精度的软模板。

4.按照权利要求3项2)所要求的涂布聚合物，其特征在于：

1)PDMS预聚体与固化剂按10∶1(V/V)比例混合，再加甲苯，甲苯占总重量的10～70％，三者充分混合。

2)或采用h-PDMS，其成分为VDT-731∶SIP6381.1∶F1UKA87927＝3.4g∶50μg∶100μg混合后真空中除气5min，再加1g HMS-301混合均匀，涂布后60℃热固化30min。

5.按照权利要求3所要求的多孔阳极氧化铝母模板抗粘处理，其特征在于：

1)采用气相CVD沉积或为液相沉积。

2)抗粘剂为perfluorodecyltrichlorosilane(CF₃-(CF₂)₇-(CH₂)₂-SiCl₃ or FDTS)或F13-OTCS(tridecafluoro-1，1，2，2-tetrahydrooctyl trichlorosilane)，或其它，目的是为了脱模容易。

6.按照权利要求1所要求的模板制作技术，其特征要求：也可以采用PMMA来复制出模板。