[发明专利]洗涤剂组合物

说明书

技术领域

本发明涉及用于洗涤记录介质用基板、光掩模用基板或平板显示器用 基板的洗涤剂组合物以及使用了该洗涤剂组合物洗涤该基板的方法。

背景技术

近年来，在个人电脑或携带式音乐播放器等各种用途中使用的硬盘驱 动器需要高记录容量以及磁盘尺寸的小型化和轻质化。与之相伴，尤其是 在这5年间，硬盘驱动器中使用的记录介质的记录密度飞速提高，对基板 表面的洁净度的要求也变得非常严格。因此，需要将基板表面上的油分污 渍或微粒等杂质充分洗涤。

另外，在半导体领域，特别是在这5年间，高集成化和高速化也在飞 速发展。半导体的制造工序中，在光蚀刻工序中使用残留有杂质的光掩模 而进行图案形成时，无法得到像设计那样的电路图案，产生配线缺失等麻 烦，可能会产生品质不佳或生产合格率的降低。半导体元件的集成度越高、 电路图案越细微，这种倾向表现得越强。因此，为了抑制由于电路图案的 细微化而产生的产品的品质恶化或合格率的降低，希望充分洗涤光掩模表 面上的油性污渍或微粒等杂质。

此外，近年来，特别是在以这5年间普及率急速增长的液晶电视或等 离子电视为代表的平板显示器(在本说明书中，有时也称作“FPD”)中， 在面板尺寸的大型化以及高精细化的进展中，制造工序中的面板表面所要 求的洁净度正在变高。

在这种近年来的状况中，基于近10年前或更早以前的技术状况开发出 来的洗涤剂组合物例如专利文献1～3记载的洗涤剂组合物的洗涤性对于 所需要的表面品质而言是不充分的。

专利文献1：日本特开平5—43897号公报

专利文献2：日本特开平11—116984号公报

专利文献3：日本特开平11—181494号公报

发明内容

本发明的课题在于提供一种用于洗涤记录介质用基板、光掩模用基板 或平板显示器用基板的洗涤剂组合物，该洗涤剂组合物可以实现记录介质 的高密度化、半导体的高集成化、高速化或FPD的大型、高精细化所要求 的表面品质。

即，本发明的主要内容在于：

一种洗涤剂组合物，其用于洗涤记录介质用基板、光掩模用基板或 平板显示器用基板，所述记录介质用基板、所述光掩模用基板和所述平板 显示器用基板的至少表面由金属质或玻璃质基材构成，所述洗涤剂组合物 含有至少满足以下的(i)～(iii)的共聚化合物(I)，

(i)来自丙烯酸的结构单元A1为全部结构单元中的20mol％以上，

(ii)来自丙烯酸的结构单元A1和来自2—丙烯酰胺—2—甲基丙磺 酸的结构单元A2的总含量为全部结构单元中的90mol％以上，

(iii)全部结构单元中的结构单元A1与结构单元A2的含量比[结构 单元A1(mol％)/结构单元A2(mol％)]为91/9～95/5；

一种洗涤剂组合物，其用于洗涤记录介质用基板、光掩模用基板或 平板显示器用基板，所述记录介质用基板、所述光掩模用基板和所述平板 显示器用基板的至少表面由金属质或玻璃质基材构成，所述洗涤剂组合物 由至少满足以下的(i)～(iii)的共聚化合物(I)配合而成，

(i)来自丙烯酸的结构单元A1为全部结构单元中的20mol％以上，

(ii)来自丙烯酸的结构单元A1和来自2—丙烯酰胺—2—甲基丙磺 酸的结构单元A2的总含量为全部结构单元中的90mol％以上，

(iii)全部结构单元中的结构单元A1与结构单元A2的含量比[结构 单元A1(mol％)/结构单元A2(mol％)]为91/9～95/5；

一种洗涤方法，其是使用前述[1]或[2]记载的洗涤剂组合物对记录 介质用基板、光掩模用基板或平板显示器用基板进行洗涤的方法，所述记 录介质用基板、所述光掩模用基板和所述平板显示器用基板的至少表面由 金属质或玻璃质基材构成，所述洗涤方法包含下述工序(a)或工序(b)，

工序(a)：将该记录介质用基板、该光掩模用基板或该平板显示器用 基板浸渍到该洗涤剂组合物中，

工序(b)：喷射该洗涤剂组合物，一边使其接触该记录介质用基板、 该光掩模用基板或该平板显示器用基板的表面，一边进行洗涤。

通过使用本发明的洗涤剂组合物洗涤记录介质用基板、光掩模用基板 或平板显示器用基板，可以实现记录介质的高密度化、半导体的高集成化、 高速化或FPD的大型、高精细化所要求的表面品质。