[实用新型]掩模盒

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光刻工艺中用于存放掩模板的掩模盒。

背景技术

半导体制造技术中的光刻工艺是通过光学成像的方法将掩模板上的图案转移到半导体晶片表面的光刻胶上的过程，然后通过所述光刻胶上已定义好的图案进行刻蚀或离子注入。由于光刻工艺对污染很敏感，需要严格控制光刻工艺环境的洁净度。通常光刻工艺的掩模板都需要存放于掩模盒(Reticle Pod)中，以避免在传送过程受到外部环境的污染。专利号为US 5296893的美国专利公开了一种掩模盒。图1为所述美国专利公开的掩模盒的剖面示意图。

如图1所示，所述美国专利公开的掩模盒包括一基本部件10，一盖子12以及所述基本部件10和盖子12的锁闭装置20。掩模板22以如图1所示的方式放置于所述掩模盒中。

所述基本部件10为方形结构，在所述基本部件10的四周边缘有侧墙11，所述侧墙11与基本部件10形成凹槽结构。在所述基本部件10上还分别形成有四个支撑柱14，在所述支撑柱上形成有部件16，所述掩模板22支撑于所述部件16上。

所述盖子12的形状也为方形，在所述盖子12上形成有四个凸柱18，用于固定所述掩模板22，以防止所述掩模板22上下移动。

所述盖子12和基本部件10通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒放置于曝光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所述基本部件10和盖子12上下分离，将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台(ReticleStage)上进行曝光。

在所述掩模板22的四个边角的其中两个边角位置设置有对准标记、条形码标记等图案，所述对准标记在曝光时用作上下层的对准标记。然而，掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述支撑柱14上的部件16与会所述掩膜板上的图案接触而使所述图案被磨损。例如，当所述图案为对准标记时，导致所述对准标记被磨损而损坏，致使所述掩模板22在曝光时上下层对准产生较大的误差，甚至超出工艺要求的范围，以至于导致器件的电性发生变化。

实用新型内容

因此，本实用新型的目的在于提供一种掩模盒，以解决现有掩模盒导致放置于其中的掩模板上的图案被磨损的问题。

为达到上述目的，本实用新型提供一种掩模盒，用于放置掩模板，所述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，所述接触端与所述图案之间有距离。

优选的，所述支撑部为棱柱、棱锥、棱台中的一种。

优选的，所述支撑部为四棱柱，该四棱柱横截面的宽度为1至2mm，长度为3至4mm。

优选的，所述支撑部为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板接触。

优选的，所述球缺的摩擦系数小于所述圆柱体的摩擦系数。

优选的，所述支撑部与所述盒体为一体成型。

优选的，所述支撑部与所述盒体为活动方式连接。

优选的，所述盒盖上还形成有用于防止所述掩模板沿所述盒盖法线方向滑动的凸柱。

优选的，所述凸柱与所述掩膜板的接触端为圆弧形。

优选的，所述掩模盒还包括有盒盖与盒体的锁闭装置。

优选的，所述图案包括对准标记、条形码标记和版图图案。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

本使用新型的掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，该掩膜盒用于放置具有图案的掩膜板，所述接触端与所述图案之间有距离。在掩模板放置于所述掩模盒中时，所述接触端接触所述掩膜板上图案区域以外的区域，从而不会造成对所述掩膜板上的图案的磨损，减少了由于在掩模盒中存取掩膜板而引起的掩模板图案被损伤的缺陷，提高了掩模板的使用寿命，可降低成本；进一步的，由于所述掩模板上的图案不会被磨损，可减少曝光过程中光刻工艺指标的偏差，有助于增大光刻的工艺窗口，提高光刻工艺的可维护性。

所述支撑部可以是圆柱体和球缺的组合体，当掩膜板放置于所述掩膜盒中时，所述球缺与所述掩膜板接触，所述球缺的弧形表面减小了所述支撑部与所述掩膜板的接触面积，从而减小了对掩膜板的磨损。

所述掩膜盒的盒盖上还形成有凸柱，所述凸柱与所述支撑部结合用于夹持所述掩膜板，在搬运掩膜盒过程中放置在所述掩膜盒中的掩膜板不会晃动，减小被损伤的可能性。

附图说明

图1为现有一种掩模盒的剖面示意图；