[发明专利]包含有青色型和黄色型颜色特性的像素的彩色图像传感器无效

专利信息
申请号: 200710305205.0 申请日: 2007-12-29
公开(公告)号: CN101236981A 公开(公告)日: 2008-08-06
发明(设计)人: 浅羽哲朗 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N9/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含有 青色 黄色 颜色 特性 像素 彩色 图像传感器
【说明书】:

技术领域

本发明涉及集成电路装置,以及更具体地涉及集成电路图像感测装置。

背景技术

CMOS图像传感器典型地包括形成在集成电路衬底内的图像传感器单元的二维阵列。为了在传感器内实现颜色表达,有机滤色器阵列可以形成在图像传感器单元的二维阵列上并且微透镜阵列可以形成在滤色器阵列上。滤色器阵列可以包括与二维阵列内对应的图像传感器单元(即,像素)相对设置的红(R)、绿(G)和蓝(B)滤色器的镶嵌图案。在授权给Kim的名为“Solid-State Imaging Devices Having Combined Microlens and LightDispersion Layers for Improved Light Gathering Capacity and Methods ofForming Same”的美国专利号6517017中公开了一种其中具有微透镜阵列和滤色器阵列的示范性CMOS图像传感器。典型的滤色器阵列可以包括红一绿-绿-蓝(RGGB)滤色器的重复的4像素镶嵌图案。替换的滤色器阵列可以包括重复的黄-洋红-青(YMC)图案、重复的黄-青-白(YCW)图案或重复的青-黄-绿-洋红(CYGM)图案。

如图1所示,常规的四晶体管(4T)CMOS图像传感器单元10包括埋置的光电二极管(BPD)、对传输信号TX作出响应的图像传输晶体管T1、对复位信号RX作出响应的复位晶体管T2、对驱动信号DX作出响应的驱动晶体管T3和对选择信号SX作出响应的选择晶体管T4。选择晶体管T4驱动传感器单元10的输出节点OUT,该输出节点电连接至对偏置信号Vb作出响应的负载晶体管T5。驱动晶体管T3的栅极端子连接至浮动扩散(floatingdiffusion,FD)区,该浮动扩散区电连接至传输晶体管T1的漏极和复位晶体管T2的源极。该浮动扩散区示意性地图示为电容器(Cfd)。浮动扩散区在图像传输晶体管T1启动时接收来自埋置光电二极管的电荷载流子。当光子辐射被光电二极管接收并在其中产生电子-空穴对时产生这些电荷载流子。传输到浮动扩散区的电荷载流子起到偏置驱动晶体管T3的栅极端子的作用。另外,复位晶体管T2的启动能通过电耦合浮动扩散区至正电源电压VDD来复位浮动扩散区。

另外的CMOS图像传感器可以利用变化维度的光电二极管来俘获不同颜色的光。在授权给Hwang的名为“CMOS Image Sensor and Method ofManufacturing the Same”的美国专利公开号2007/0063299中公开了一种这样的图像传感器。在美国专利号6548833、5965875和6964916以及美国专利公开号2003/0124753和2007/0057338中还公开了其它图像传感器。

发明内容

本发明的实施例包括彩色图像传感器,该彩色图像传感器含有具有变化的颜色特性的像素。根据这些实施例,图像传感器设置有具有青色型颜色特性的像素(即,图像传感器单元)。该具有青色型颜色特性的像素可以包括主光探测器和次光探测器。主光探测器相邻于半导体衬底的表面的一部分延伸,该半导体衬底构造为接收入射到其上的可见光。次光探测器掩埋在半导体衬底中。次光探测器具有电耦合到图像传感器的节点的第一电荷承载端子(charge carrying terminal),所述节点偏置于第一电压。在某些情况,该第一电压可以为正电压,比如电源电压(例如,Vdd)。

根据这些实施例的另外的方面,次光探测器构造为接收穿过主光探测器的可见光。而且,主光探测器可以包括第一光电二极管,该第一光电二极管具有电连接到传输晶体管的第一源极/漏极区的阴极,而且次光探测器可以包括第二光电二极管,该第二光电二极管具有电连接至节点的阴极和与第一光电二极管的阴极形成P-N整流结的阳极。第二光电二极管的阴极和节点之间的电连接可以由在半导体衬底内的N型半导体区提供。传输晶体管的第二源极/漏极区可以作为图像传感器内的浮动扩散区。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710305205.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top