[发明专利]电解加工装置

权利要求书

1.一种电解加工装置，其特征在于具有：

电极部，布置了多个供电电极和多个加工电极；

保持部，保持被加工物，使上述被加工物与上述电极部的供电电极和加工电极自如接触或接近；

电源，连接到上述电极部的各供电电极和加工电极；以及

驱动机构，用于使上述电极部和被加工物之间产生相对运动，

在上述供电电极和加工电极的内部，分别形成了向该供电电极和加工电极的表面供应流体的穿通孔。

2.如权利要求1所述的电解加工装置，其特征在于：在上述供电电极和加工电极之间布置流体供给喷嘴，用于向上述被加工物与上述供电电极和上述加工电极之间供应流体。

3.一种电解加工装置，其特征在于具有：

电极部，交替并列地布置了供电电极和加工电极；

保持部，保持被加工物，使上述被加工物与上述电极部的供电电极和加工电极自如接触或接近；

电源，连接到上述电极部的各供电电极和加工电极；

驱动机构，用于使上述电极部和被加工物之间产生相对运动，以及

液体供给部，用于向该供电电极和加工电极与基片之间供应液体。

4.如权利要求3所述的电解加工装置，其特征在于：在上述供电电极和上述加工电极与被加工物之间具有离子交换体。

5.一种基片保持部，用于保持基片使其与加工电极相接触进行电解加工，其特征在于具有：

法兰盘部，与轴相连结；以及

夹紧部件，能相对于上述法兰盘部在上述轴的方向上移动自如，而且用于保持上述基片。

6.如权利要求5所述的基片保持部，其特征在于：具有形成在上述法兰盘部和上述夹紧部件之间的第1压力室，通过向上述第1压力室内供应流体，来对该第1压力室进行加压，使保持在上述夹紧部件上的基片与加工电极相接触。

7.如权利要求6所述的基片保持部，其特征在于：上述第1压力室由上述法兰盘部、上述夹紧部件、以及用于连结上述法兰盘部和上述夹紧部件的弹性部件形成。

8.如权利要求5所述的基片保持部，其特征在于：通过在上述夹紧部件上安装规定重量的重物，来调整对上述基片的上述加工电极的按压力。

9.如权利要求5所述的基片保持部，其特征在于：还具有把上述夹紧部件向下按压的汽缸。

10.如权利要求5所述的基片保持部，其特征在于：上述夹紧部件具有：形成了与上述基片相连通的连通孔的夹紧板、布置在上述夹紧板上方的止动板、以及形成在上述夹紧板和上述止动板之间的第2压力室，

通过从上述第2压力室中吸引流体，能够降低该第2压力室的压力，把上述基片吸附到上述夹紧部件内。

11.如权利要求5所述的基片保持部，其特征在于：把具有向内突出的突出部的定位环安装在上述法兰部上，把与上述定位环的突出部相结合的突起设置在上述夹紧部件上。

12.一种电解加工装置，其特征在于具有：

加工电极；

供电电极，用于向基片供电；

基片保持部，用于保持上述基片使其与上述加工电极相接触；

电源，用于在上述加工电极和上述供电电极之间加电压；以及

驱动部，用于使在上述基片保持部保持的基片与上述加工电极进行相对移动，

上述基片保持部是用于保持基片使其与加工电极相接触进行电解加工的基片保持部，上述基片保持部具有：法兰盘部，它与轴相连结；以及夹紧部件，它相对于上述法兰盘部能在上述轴的轴向上移动自如，而且用于保持上述基片。

13.如权利要求12所述的电解加工装置，其特征在于：把离子交换体布置在上述基片和上述加工电极或上述供电电极的至少一方之间。

14.如权利要求13所述的电解加工装置，其特征在于：具有一种流体供给部，用于把流体供给到布置了上述离子交换体的上述基片和上述加工电极或上述供电电极的至少一方之间。

15.如权利要求12所述的电解加工装置，其特征在于：在上述基片和上述加工电极或上述供电电极的至少一方之间，布置具有通水性的部件。