[发明专利]布线电路基板及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710147214.1 申请日: 2007-08-29
公开(公告)号: CN101137272A 公开(公告)日: 2008-03-05
发明(设计)人: 石井淳;大薮恭也 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/16;H05K3/46
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沙永生
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 布线 路基 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.布线电路基板,其特征在于,具备金属支承基板,形成于前述金属支承基板上的厚度未满2.0μm的金属箔,形成于前述金属支承基板上的被覆前述金属箔的第1绝缘层,以及形成于前述第1绝缘层上的导体布图。

2.如权利要求1所述的布线电路基板,其特征在于,还具备介于前述金属箔和前述金属支承基板间形成的第1金属薄膜。

3.如权利要求2所述的布线电路基板,其特征在于,还具备介于前述第1金属薄膜和前述金属支承基板间形成的第2绝缘层。

4.如权利要求1所述的布线电路基板,其特征在于,还具备介于前述金属箔和前述金属支承基板间形成的第2绝缘层。

5.如权利要求1所述的布线电路基板,其特征在于,还具备介于前述金属箔和前述第1绝缘层间形成的第2金属薄膜。

6.如权利要求1所述的布线电路基板,其特征在于,前述导体布图具备互相隔着间隔被配置的多条配线,前述金属箔具备互相隔着间隔被配置的多个分离部分,使其至少一部分与前述配线在厚度方向上对向。

7.如权利要求1所述的布线电路基板,其特征在于,通过溅射形成前述金属箔。

8.布线电路基板的制造方法,其特征在于,具备准备金属支承基板的工序,在前述金属支承基板上通过溅射形成金属箔的工序,在前述金属支承基板上形成被覆前述金属箔的第1绝缘层的工序,以及在前述第1绝缘层上形成导体布图的工序。

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