[发明专利]液晶显示面板及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种液晶显示器及其制造方法，特别是一种将偏光膜和液晶显示面板一体化的液晶显示面板及其制造方法。

背景技术

近年来，液晶显示器(liquid crystal display，简称LCD)产品发展十分迅猛，越来越多高品质的液晶显示器逐渐上市，其应用领域也不断拓宽，但同时也出现了不少问题，其中偏光膜(偏光膜arizing Film，简称POL)的贴附带来的一系列问题是造成液晶显示面板光透过率和良品率不高的重要因素之一。

现有技术中，液晶显示面板和偏光膜制作通常是分开进行的，偏光膜由偏光膜生产厂家直接提供，液晶显示面板在完成分割和对盒工艺后，直接在后续工艺中完成偏光膜贴附，即将制造好的偏光膜(上偏光膜和下偏光膜)贴附在液晶显示面板表面。实际生产中，现有技术这种工艺对液晶显示面板的显示效果存在多种不利影响，造成良品率不高，同时使生产成本上升，具体体现在：

(1)由于偏光膜制作和贴附过程中都存在拉伸工序，因而在贴附到面板上后偏光膜存在着收缩现象，使贴附偏光膜后的面板可能存在弯曲现象；

(2)在贴附偏光膜过程中存在着对位情况，如果对位情况不好则会影响显示效果；

(3)出于设计考虑，贴附的偏光膜增加了一些接触层，这些接触层影响光透过率，进而影响显示效果；

(4)偏光膜外层附着一层黏着剂，该黏着剂在温度较高和使用时间较长情况下会存在老化等现象；

(5)在贴附偏光膜时，如果偏光膜没有伸展开就会存在气泡现象，在后续剥离偏光膜外侧的保护膜时则会带来不必要的异物，对液晶显示面板的良品率有较大影响；贴附偏光膜精度不够时，会影响显示效果；

(6)目前，偏光膜通常是采用9层形式，分别为异型膜(Release film)、粘着层(PSA)、光补偿层(WV DLC)、支持层(TAC Film)、偏光层(PVA Film)、支持层(TAC Film)、防眩层(AG Layer)、低反射层(LR/AR Layer)和保护膜(Protective Film)；偏光膜的制作工艺通常采用预固化(Pre-cure)、延伸&拓展(Laminating)、沉积(Coating)、切割(Cutting)、检查和包装等工艺，由于层数多、工艺复杂而难以有效控制，导致良品率不高，同时使生产成本上升。另外，由于沉积膜的层数较多，对液晶显示面板的光透过率有重大不利影响。

发明内容

本发明的目的是提供一种液晶显示面板及其制造方法，通过偏光膜和液晶显示面板一体化设置，有效解决现有技术由于偏光膜生产工艺和贴附工艺不良导致的影响显示效果、良品率不高和生产成本上升等技术缺陷。

本发明第一方面提供了一种液晶显示面板，包括对盒的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积有偏光膜，所述偏光膜至少包括依次沉积的支持层、偏光层、防眩层和保护层，所述偏光层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～50000nm的含光敏取代基聚乙烯醇，并经紫光照射或紫外光照射取向处理。

其中，所述支持层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的三乙酰基纤维素。所述防眩层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，所述无水硅酸的微粒子半径为0.5μm～2.5μm。

在上述液晶显示面板技术方案基础上，所述偏光膜的厚度为100～80000nm。

本发明第二方面提供了一种液晶显示面板的制造方法，包括步骤：

将彩膜基板和阵列基板对盒形成面板；

在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜，所述偏光膜至少包括依次沉积的支持层、偏光层、防眩层和保护层，所述偏光层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～50000nm的含光敏取代基聚乙烯醇，并经紫光照射或紫外光照射取向处理。

其中，在所述彩膜基板和阵列基板上分别沉积偏光膜具体为：在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜，面板翻转或倾转180度，在阵列基板或彩膜基板表面上沉积偏光膜。

其中，在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜具体为：在基板表面沉积一层支持层；在所述支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；在所述偏光层上沉积一层防眩层；在所述防眩层上沉积一层保护层。