[发明专利]液晶显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板，包括对盒的彩膜基板和阵列基板，其特征在于，所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积有偏光膜，所述偏光膜至少包括依次沉积的支持层、偏光层、防眩层和保护层，所述偏光层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～50000nm的含光敏取代基聚乙烯醇，并经紫光照射或紫外光照射取向处理。

2.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述支持层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的三乙酰基纤维素。

3.根据权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述防眩层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～8000nm的无水硅酸和丙烯酸类树脂的混合物，所述无水硅酸的微粒子半径为0.5μm～2.5μm。

4.根据权利要求1～3中任一权利要求所述的液晶显示面板，其特征在于，所述偏光膜的厚度为100～80000nm。

5.一种液晶显示面板的制造方法，其特征在于，包括步骤：

将彩膜基板和阵列基板对盒形成面板；

在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜，所述偏光膜至少包括依次沉积的支持层、偏光层、防眩层和保护层，所述偏光层为通过化学沉积或物理沉积的厚度为100～50000nm的含光敏取代基聚乙烯醇，并经紫光照射或紫外光照射取向处理。

6.根据权利要求5所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在所述彩膜基板和阵列基板上分别沉积偏光膜具体为：在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜，面板翻转或倾转180度，在阵列基板或彩膜基板表面上沉积偏光膜。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在彩膜基板或阵列基板表面上沉积偏光膜具体为：

在基板表面沉积一层支持层；

在所述支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

在所述偏光层上沉积一层防眩层；

在所述防眩层上沉积一层保护层。

8.根据权利要求5所述的液晶显示面板的制造方法，其特征在于，在所述彩膜基板和阵列基板表面上分别沉积偏光膜具体为：

在彩膜基板表面沉积一层支持层，面板翻转或倾转180度，在阵列基板表面沉积一层支持层；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的支持层上沉积一层偏光层，并进行紫光照射或紫外光照射取向处理；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的偏光层上沉积一层防眩层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的低反射层上沉积一层防眩层；

面板翻转或倾转180度，在所述彩膜基板的防眩层上沉积一层保护层，面板翻转或倾转180度，在所述阵列基板的防眩层上沉积一层保护层。