[发明专利]一种叠层片式电子元件的表面处理方法有效
| 申请号： | 200710075891.7 | 申请日： | 2007-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN101350238A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 徐鹏飞;高兴尧;何明星;丁晓鸿;樊应县;肖倩;高永毅;陈传庆;潘锴 | 申请（专利权）人： | 深圳振华富电子有限公司 |
| 主分类号： | H01C7/10 | 分类号： | H01C7/10;H01C7/02;H01C7/04;H01F41/00 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518109广东省深圳市宝安*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 叠层片式 电子元件 表面 处理 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种叠层片式电子元件的表面处理方法，包括下述步骤：
(1)将涂银后的叠层片式电子元件在去离子水中清洗1-5分钟，去除表面杂质后干燥，待处理；并配置表面处理用磷酸溶液，保持溶液温度为40-90℃；
(2)将待处理叠层片式电子元件浸泡于所述磷酸溶液中0.1-20分钟；
(3)将浸泡后的叠层片式电子元件在25-130℃下干燥；
(4)将干燥后的叠层片式电子元件在300-900℃下烧结。
2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述磷酸溶液为分析纯磷酸溶液，浓度为85％以上。
3.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述磷酸溶液为磷酸水溶液或者磷酸的乙醇溶液，浓度为10％-85％。
4.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：步骤(1)中所述干燥步骤为在50-120℃烘干。
5.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：其中步骤(3)中干燥步骤为烘干或者风干。
6.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：其中步骤(4)中烧结时间为0.1-2小时。
7.根据权利要求1所述的表面处理方法，其特征在于：所述叠层片式电子元件包括叠层片式热敏电阻、叠层片式压敏电阻、叠层片式电感器和叠层片式磁珠。
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