[发明专利]一种超细、球化稀土抛光粉及其制备工艺有效

专利信息
申请号: 200710065388.3 申请日: 2007-04-12
公开(公告)号: CN101284983A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 朱兆武;韩业斌;龙志奇;黄小卫;崔大立;张顺利;崔梅生 申请(专利权)人: 北京有色金属研究总院;有研稀土新材料股份有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 代理人: 郭佩兰
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 稀土 抛光 及其 制备 工艺
【说明书】:

技术领域

本发明涉及到一种超细、球化稀土抛光粉及其制备工艺,属于稀土粉体材料的化学制备技术领域。

背景技术

稀土抛光粉主要用于玻璃、晶体等制品的抛光,稀土抛光粉主要为铈基氧化物粉体,按氧化铈的含量多少可分为高铈抛光粉、中铈抛光粉和低铈抛光粉。目前,我国生产的抛光粉低档次较多,在较高档次的稀土抛光粉生产上与国外相比仍有一些差距,在要求较高的器件抛光上仍需要依赖进口抛光粉,  目前虽有几家生产高性能抛光粉,但仍不能满足国内日益增长的市场需求,因此加速高性能抛光粉生产仍将是当前十分迫切的任务。

对于低铈和中铈抛光粉目前多采用物理方法为主的制备工艺,专利CN1205354A公开了一种稀土抛光粉的生产方法,按重量计取1份品位为40%~85%的稀土精矿粉和0.5~2份烧碱混合,加热至600~850℃,于混物熔融状态保温1~3小时后冷却、粉碎、水洗,得氢氧化稀土富集物,再加入工业氢氟酸将其中的氢氧化稀土氟化得氟氢氧化稀土富集物,然后焙烧、研磨,得稀土抛光粉。此工艺得到的产品硬度大,粒度细小,呈面心立方晶体,在抛光过程中容易划伤抛光表面,仅用于高速抛光不适合精密表面的抛光。

高铈抛光粉铈含量高,抛光效果好,目前多采用化学方法制备。美国专利5543216公开了一种合成氧化铈颗粒的制备方法,该方法调节反应物的pH值为8~9,并在压力下升温至100~200℃,得到的粒子粒度在0.03~5um之间,该方法比较复杂,设备昂贵,粒度分布宽,抛光效果不佳。

中国专利CN1821314公开了一种超细氧化铈的制备方法,采用含有铈离子的盐溶液,加入表面活性剂后,让溶液先与一种碱性物质接触,控制反应悬浮液的pH值,生成沉淀物,然后该悬浮液用草酸进行转化,控制反应终点的pH值,最后过滤、洗涤、干燥该沉淀物,在600~1000℃下灼烧,得到的超细氧化铈可用于抛光,但该方法中制备步骤也比较复杂,制的产品粒度分布也比较宽在10nm~30um之间,比表面积达到了50m2/g,其用作抛光粉重复使用性差。

中国专利200510132522.8公开的方法中制备步骤也比较复杂,制得的产品粒度分布也比较宽,在10nm~30um之间,比表面积达到了50m2/g,其用作抛光粉时,重复使用性差。

目前,对抛光粉平均粒径在0.02~2.0um之间,0<比表面积BET<10m2/g,0<分散度σ<1.5,球化比较好,切削力大,重复使用性好的抛光粉体的制备方法未见报道。

发明内容

本发明的目的是提供一种超细、球化稀土抛光粉及其制备工艺,利用本发明制备的稀土抛光粉的平均粒径在0.02~2.0um范围内,0<比表面积BET<10m2/g,0<分散度σ<1.5,切削力大、粒度分布均匀的近球形粉体,制备工艺简单,操作容易,易于工业化生产。

为达到上述目的,本发明采用以下技术方案:这种高性能的稀土抛光粉的制备工艺,具体步骤如下:

1)将稀土盐与沉淀剂分别溶于水中配成一定浓度的溶液;

2)将稀土盐溶液在一定温度下保温;

3)搅拌下将沉淀剂按一定加料速度加入到恒温的铈盐溶液中,加料完毕后继续搅拌一段时间,使混合均匀;

4)加入一定量铵盐调节沉淀后母液的离子强度,并加入一定量的F离子,搅拌均匀;

5)将混合液在一定温度下保温陈化一段时间;

6)冷却后过滤或离心分离,干燥后得到抛光粉的前驱体;

7)将前驱体粉体在一定温度下灼烧,得到协同氧化物粉体,在经过分散、分选后处理,得到稀土抛光粉。

本工艺采用工业上常用的沉淀方法,在沉淀后的母液中加入铵盐调控离子强度,增大沉淀颗粒的表面电性,得到超细、球化度高、分散性好的稀土抛光粉。

本发明一种抛光粉的制备工艺,稀土盐为纯铈盐,纯度(CeO2/TREO)为98%~99.99%,也可以是铈和其它稀土混合盐,CeO2/TREO=50%~98%,其它稀土可以为La、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Y中的一种或两种以上。

本发明的制备工艺使用的稀土盐溶液为硝酸盐、氯化物、硫酸盐或者它们的复合盐溶液,浓度为0.05~2mol/L。

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