[发明专利]金属电容式微加速度计无效
申请号: | 200710043746.0 | 申请日: | 2007-07-12 |
公开(公告)号: | CN101089625A | 公开(公告)日: | 2007-12-19 |
发明(设计)人: | 陈文元;李凯;吴校生;张卫平;崔峰 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | G01P15/125 | 分类号: | G01P15/125 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 王锡麟;王桂忠 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 电容 式微 加速度计 | ||
1.一种金属电容式微加速度计,包括:上基体(1)、下基体(2)、下极板(3)、质量块(4)、下止动块(5)、支撑梁(7)、支撑柱(8)、输入输出引脚(9)、上极板(10)和上止动块(11),其特征在于:省略了中间极板,下极板(3)、质量块(4)和上极板(10)构成差分电容结构,上极板(10)和上止动块(11)位于上基体(1)上,下极板(3)和下止动块(5)位于下基体(2)上,质量块(4)由支撑梁(7)支撑并位于上基体(1)和下基体(2)之间,上基体(1)和下基体(2)之间由支撑柱(8)连接,上极板(10)由支撑柱(8)连接至位于下基体(2)上的输入输出引脚(9);
所述质量块(4)、支撑梁(7)、支撑柱(8)、上止动块(11)、下止动块(5)的均为金属材料制成。
2.根据权利要求1所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述支撑梁(7)均匀分布。
3、根据权利要求2所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述支撑梁(7)在质量块周边上的分布密度大于8根/mm。
4.根据权利要求1所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述质量块(4)上分布有通孔(6)。
5.根据权利要求1所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述上止动块(11)设在上基体(1)的中心处,下止动块(5)设在下基体(2)的中心处,
6.根据权利要求1或5所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述上止动块(11)高于上极板(10),下止动块(5)高于下极板(3)。
7.根据权利要求1或5所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述上止动块(11)、下止动块(5)分别与上极板(10)、下极板(3)绝缘。
8.根据权利要求1所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述支撑柱(8)呈均匀分布。
9.根据权利要求1所述的金属电容式微加速度计,其特征是:所述质量块(4)与上极板(10)、下极板(3)等距离。
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