[发明专利]工件处理系统和等离子体产生装置

权利要求书

1.一种工件处理系统，用于在输送工件的同时，向工件照射等离子体而对所述工件实施指定的处理，其特征在于包括：

等离子体产生装置，其具备，

用于产生微波的微波产生器；

用于使微波传播的波导；以及

具有多个等离子体产生且释放用喷嘴的等离子体产生器，所述多个等离子体产生且释放用喷嘴用于接收微波、基于所接收的微波能量产生等离子体化的气体并且释放所产生的所述等离子体化的气体，而且，所述多个等离子体产生且释放用喷嘴以排列的方式安装在所述波导上；

工件输送装置，用于输送所述工件让其通过所述等离子体产生器，每个所述等离子体产生且释放用喷嘴包括：

一端位于所述波导内的内部导体；

配置在所述内部导体周围并与所述内部导体之间留有间隔的外部导体；以及

用于供应指定气体至所述内部导体和外部导体之间的所述间隔的气体供应部，

由此从所述等离子体产生且释放用喷嘴的引导端释放所述等离子体化的气体。

2.根据权利要求1所述的工件处理系统，其特征在于，

所述工件输送装置具有能够输送平板形式的所述工件的结构，

所述等离子体产生器具有等于所述工件在垂直于输送方向上的宽度的宽度。

3.根据权利要求2所述的工件处理系统，其特征在于，

所述波导是矩形波导，

所述多个等离子体产生且释放用喷嘴被成行地排列在所述矩形波导的一侧表面。

4.一种等离子体产生装置，其特征在于包括：

微波产生器，用于产生微波；

波导，用于使微波传播；以及

等离子体产生器，具有多个等离子体产生且释放用喷嘴，所述多个等离子体产生且释放用喷嘴用于接收微波、基于所接收的微波能量产生等离子体化的气体并且释放所产生的所述等离子体化的气体，而且，所述多个等离子体产生且释放用喷嘴以排列的方式安装在所述波导上，其中，

所述波导具有面对待处理工件的输送路径的表面，所述等离子体产生器被安装在所述表面上，

每个所述等离子体产生且释放用喷嘴包括：

一端位于所述波导内的内部导体；

配置在所述内部导体周围并与所述内部导体之间留有间隔的外部导体；以及

用于供应指定气体至所述内部导体和外部导体之间的所述间隔的气体供应部，

由此从所述等离子体产生且释放用喷嘴的引导端释放所述等离子体化的气体。