[发明专利]镍粉及其制造方法、以及使用该镍粉的聚合物PTC元件

权利要求书

1.一种镍粉，其特征在于，含有1～20质量％的钴，余量包含镍和 不可避免的杂质，并且由一次粒子凝聚而得到的二次粒子构成，平均 一次粒径为1.0～3.0μm，一次粒径的标准偏差σ和平均一次粒径d₁之比 σ/d₁的值为0.4以下，平均二次粒径为5～60μm，震填密度为 1.0～3.5g/mL，比表面积为2.0m²/g以下。

2.权利要求1所述的镍粉，其特征在于，上述平均一次粒径d₁和上述平均二次粒径d₂之比d₂/d₁的值为5～60的范围内。

3.权利要求1或2所述的镍粉，其特征在于，存在于上述二次粒 子的表层部的一次粒子的钴含量为该表层部的总质量的1～40质量％。

4.权利要求3所述的镍粉，其特征在于，上述二次粒子的表层部 的钴含量为该表层部总质量的8～20质量％。

5.权利要求1或2所述的镍粉，其特征在于，在全部镍粉中的钴 含量为4～10质量％。

6.权利要求1或2所述的镍粉，其特征在于，镍粉内部的钴含量 为该内部的总质量的3～6质量％。

7.权利要求1或2所述的镍粉，其震填密度为2.3～3.0g/mL。

8.权利要求2所述的镍粉，其特征在于，上述比值d₂/d₁为8～16 的范围内。

9.一种镍粉的制造方法，其特征在于，该方法包括下述步骤：在 含有还原剂的水溶液中添加2价的镍盐，使镍析出的第1还原析出步 骤；在第1还原析出步骤后的水溶液中添加至少2价的镍盐，进一步 使镍析出的第2还原析出步骤，在上述第1和第2还原析出步骤中， 至少在第1还原析出步骤中添加HLB值为10以下的低亲水性的表面 活性剂，同时至少在第2还原析出步骤中，向使镍析出的水溶液中添 加2价的钴盐，使镍析出而得到镍粉，再使得到的镍粉在惰性气氛或 真空中于80～230℃下干燥，或者在空气中于80～150℃下干燥后，在还 原气氛中进行200～400℃的热处理。

10.权利要求9所述的镍粉的制造方法，其特征在于，在上述第2 还原析出步骤中，添加了2价钴盐的水溶液中的钴离子的含量相对于 该水溶液中的镍离子和钴离子总量为1～40质量％，并且该水溶液中的 钴离子浓度比上述第1还原析出步骤的水溶液中的钴离子浓度高，进 而，经过上述第1和第2还原析出步骤而得到的镍粉含有1～20质量％ 的钴。

11.权利要求9所述的镍粉的制造方法，其特征在于，在上述第1 还原析出步骤的水溶液中添加2价的钴盐，使得该水溶液中的钴离子 含量相对于该水溶液中的镍离子和钴离子的总量为1～20质量％，同时 在上述第2还原析出步骤的水溶液中添加2价的钴盐，使得该水溶液 中的钴离子含量相对于该水溶液中的镍离子和钴离子的总量为1～20质 量％。

12.一种聚合物PTC元件，该元件包括：

(A)聚合物PTC要素，其含有(a1)导电性填料和(a2)聚合 物材料而成；以及

(B)金属电极，该金属电极配置在聚合物PTC要素的至少一个 表面上，其特征在于，

该PTC元件使用权利要求1～8中所述的镍粉和通过权利要求9～11 中所述的方法制造的镍粉中的任一种作为导电性填料。