[发明专利]金属硅酸盐-氧化硅基多形态荧光体和发光装置有效
申请号: | 200680008866.0 | 申请日: | 2006-03-23 |
公开(公告)号: | CN101142683A | 公开(公告)日: | 2008-03-12 |
发明(设计)人: | 田永驰 | 申请(专利权)人: | 沙诺夫公司 |
主分类号: | H01L29/15 | 分类号: | H01L29/15;H01L29/26;C09K11/55;C09K11/59;C09K11/54;C09K11/62;C09K11/64;C09K11/79;C09K11/57;C09K11/58;C09K11/60 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 金属 硅酸盐 氧化 基多 形态 荧光 发光 装置 | ||
1.一种发光装置,其包含:
产生包括300nm或更大波长的光输出的半导体光源;和
位于28光源和该装置的光输出之间的波长管理器,其包含依据下式的荧光体:
[(BvSiO3)x(Mv2SiO3)y(Tv2(SiO3)3)z]m·(SiO2)n:Rε,X (I)
其中:
x、y和z为任何值,其中x+y+z=1;
Bv为一种或多种二价碱土金属离子;
Mv为一种或多种一价碱金属离子;
Tv为一种或多种三价金属离子;
Rε为一种或多种选自Eu2+或Mn2+的激活剂;
x为一种或多种卤化物;和
m为1或0;条件是:
如果m为1并且提供对支持有用发光有效的氧化硅量,则n大于3;或
如果m=0,则n为1。
2.权利要求1的发光装置,其中Mv包含一种或多种选自Li、Na或K的离子。
3.权利要求1的发光装置,其中Bv包含一种或多种二价碱土金属离子。
4.权利要求2的发光装置,其中Bv包含一种或多种Ca或Sr离子。
5.权利要求1的发光装置,其中Bv包含一种或多种Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Cd或Hg离子。
6.权利要求1的发光装置,其中Tv包含一种或多种Al、Ga、In、Sc、Y或La离子。
7.权利要求1的发光装置,其中Rε包含Eu2+离子。
8.权利要求1的发光装置,其中Rε包含Mn2+离子。
9.权利要求1的发光装置,其中Rε包含Eu2+和Mn2+离子。
10.权利要求1的发光装置,其中波长管理器包含一种或多种另外的荧光体,其中该一种或多种另外的荧光体调节由该装置产生的光。
11.权利要求10的发光装置,其中波长管理器将光输出改变为白光。
12.根据权利要求1的发光装置,其中半导体光源包括含有夹在p-型包覆层和n-型包覆层之间的发光层的量子阱结构。
13.根据权利要求12的发光装置,其中:
p-型包覆层由AlqGa1-qN形成,其中0<q<1;
n-型包覆层由AlrGa1-rN形成,其中0≤r<1;且
任选地,p-型包覆层具有大于n-型包覆层带隙的带隙。
14.根据权利要求1的发光装置,其中半导体光源还包括含有铟和一个或多个量子阱结构的发光层。
15.根据权利要求14的发光装置,其中:
任选地,量子阱结构包含一个或多个InGaN阱层和一个或多个GaN阻挡层;
任选地,量子阱结构包含一个或多个InGaN阱层和一个或多个AlGaN阻挡层;
任选地,量子阱结构包含一个或多个AlInGaN阱层和一个或多个AlInGaN阻挡层;
该阻挡层具有大于阱层带隙能量的带隙能量;和
其中任选地,阱层具有不大于100埃的厚度。
16.根据权利要求1的发光装置,其中半导体光源包含一个或多个量子阱结构。
17.根据权利要求16的发光装置,其中量子阱结构为单量子阱结构。
18.根据权利要求16的发光装置,其中量子阱结构为多量子阱结构。
19.根据权利要求1的发光装置,其中半导体光源在衬底上包含多于一个的发光二极管(LED)。
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