[发明专利]基料组合物

权利要求书

1.包括低聚物或聚合物的用于漆的水性基料组合物，该低聚物或 聚合物由通式I的至少一种单体形成：

(R¹O-)_mSi(-R^X-NR²R³)_4-m    I

其中各R¹基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或 -(C＝O)R³³基团；

各R³³基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，

其中各R²基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基， R^Z或-R^Y-NR^VR^W基团；

各R³基团独立地选自氢，烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基，R^Z或-R^Y-NR^VR^W基团；

各R^X基团是二价有机桥连基团，

和其中各R^Y基团与以上R^X基团相同定义，

各R^V基团与以上R²基团相同定义，

各R^W基团与以上R³基团相同定义，

其中R²和/或R³可以独立地是基团-R^Y-NR^VR^W和各R^V和/或R^W能够本身 独立地是-R^Y-NR^VR^W，该-R^Y-NR^VR^W基团在通式I的硅基团和各末端-R^Y-NR^VR^W基团之间重复不超过6次，其中末端基团被定义为R²、R³，R^V或R^W选自氢， 烷基，烯基，炔基，芳基，芳烷基或R^Z基团；

R^Z是-(C＝O)R⁴或-(C＝O)-OR⁵，

其中各R⁴基团独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳 基，

各R⁵基团独立地选自任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基，

其中当R²或R^V是R^Z且R²或R^V是-(C＝O)R⁴时，R²和R³或R^V和R^W可以一起形 成环状基团，使得基团-NR²R³或-NR^VR^W可以各自独立地由通式VI表示：

其中R³²与以上R^X相同定义，其中R⁴是R³²的片段，其中R³或R^Y选 自亚烷基，亚烯基，亚炔基，亚芳烷基或亚芳基和形成该R³²片段的剩 余部分，

m＝1-3，

其中在基团-NR²R³内的至少一个氮基团直接键接于R^Z基团上，

低聚物或聚合物此外是由0-99％w/w的至少一种通式II单体形成的：

(R⁸O-)_qSi(-R⁹)_4-q    II

其中各R⁸独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基，芳基或 -(C＝O)R³⁴基团，其中R³⁴与以上R³³相同定义，

各R⁹独立地选自氢或任何烷基，烯基，炔基，芳烷基或芳基， 和q＝1-4。