[发明专利]基片到掩膜对准和紧固系统

权利要求书

1.一种材料沉积系统，其包括：

磁性卡盘，其响应于电流脉冲用于从所述磁性卡盘没有产生磁通量的第二状态切换到由所述磁性卡盘产生的磁通量从其接触面传播的第一状态，并且响应于反向电流脉冲用于从第一状态切换到第二状态，其中在没有电流提供给所述磁性卡盘的情况下，分别在第一状态下从接触面传播磁通量，以及在第二状态下不从接触面传播磁通量；

磁导阴影掩膜，所述阴影掩膜定义了接触面；以及

支撑装置，其用于可移动地支撑所述阴影掩膜的接触面，所述阴影掩膜的接触面与所述磁性卡盘的接触面是隔开的平行关系，当基片被定位在所述磁性卡盘的接触面和所述阴影掩膜的接触面之间时，对所述磁性卡盘从第二状态切换到第一状态产生响应，所述磁性卡盘产生的磁通量把所述阴影掩膜向所述磁性卡盘的方向吸引，从而把所述基片夹持在所述磁性卡盘的接触面和所述阴影掩膜的接触面之间。

2.如权利要求1所述的系统，其中对所述磁性卡盘从第一状态切换到第二状态产生响应，所述支撑装置把所述阴影掩膜从所述磁性卡盘上移开，从而在所述基片和所述阴影掩膜的接触面之间形成空隙。

3.如权利要求1所述的系统，还包括材料沉积源，其被定位在所述阴影掩膜与所述磁性卡盘相反的一侧，当所述基片被夹持在所述磁性卡盘的接触面和所述阴影掩膜的接触面之间时，所述材料沉积源可被操作来通过所述阴影掩膜把材料沉积在所述基片上。

4.如权利要求1所述的系统，还包括：

至少一个热传感器，其操作来感测所述磁性卡盘的温度；以及

操作来把所述磁性卡盘加热或者冷却到作为由所述热传感器所感测温度的功能的期望温度的装置。

5.如权利要求1所述的系统，还包括：

光源，其被耦合到所述磁性卡盘和所述支撑装置中的一个，所述光源可被操作用于输出光束；

摄像头，其被耦合到所述磁性卡盘和所述支撑装置中的另外一个；以及

系统控制器，其可被操作来接收所述摄像头输出的图像，并且控制所述支撑装置和作为所述图像的功能的所述基片的位置中的至少一个，于是所述摄像头被定位来通过所述基片上的对准孔径观察所述光源输出的光束。

6.如权利要求1所述的系统，其中所述支撑装置包括：

掩膜架，其被耦合到所述阴影掩膜与所述磁性卡盘相反的一侧；以及

运动控制系统，其被耦合到所述掩膜架与所述阴影掩膜相反的一侧。

7.如权利要求6所述的系统，还包括：

光源，其被耦合到所述磁性卡盘和所述掩膜架中的一个，所述光源可被操作来输出光束；

摄像头，其被耦合到所述磁性卡盘和所述掩膜架中的另外一个；以及

系统控制器，当所述基片被夹持在所述磁性卡盘的接触面和所述阴影掩膜的接触面之间时，其可被操作来接收所述摄像头输出的图像，并且控制所述运动控制系统和作为所述图像的功能的所述基片的位置中的至少一个，于是所述摄像头被定位来通过所述基片上的对准孔径观察所述光源输出的光束。

8.如权利要求1所述的系统，还包括：

真空室，其具有被置于其中的磁性卡盘、阴影掩膜和支撑装置；以及

平移装置，其用于把基片的至少一部分平移进和平移出真空室。

9.如权利要求4所述的系统，其中用于加热或者冷却的装置为热电器件。

10.如权利要求5所述的系统，其中所述摄像头为CCD摄像头。

11.一种材料沉积系统，其包括：

磁性卡盘，其响应于电流脉冲用于切换到第一状态，其中在其第一状态下没有额外电流提供给所述磁盘卡盘的情况下，由所述磁性卡盘产生的磁通量从其接触面传播，并且响应于反向电流脉冲用于切换到第二状态，其中在其第二状态下没有额外电流提供给所述磁性卡盘的情况下，所述磁性卡盘没有产生磁通量；

磁导阴影掩膜，其具有与所述磁性卡盘的接触面成隔开关系的接触面；

用于把基片支撑在所述磁性卡盘的接触面和所述阴影掩膜的接触面之间的装置，其中：

对所述磁性卡盘进入第一状态产生响应，所述阴影掩膜和所述磁性卡盘把所述基片夹持在其两者接触面之间；以及

对所述磁性卡盘进入第二状态产生响应，所述阴影掩膜和所述磁性卡盘释放所述基片。