[发明专利]具有薄膜晶体管的器件无效

专利信息
申请号: 00104152.5 申请日: 1994-06-10
公开(公告)号: CN1360349A 公开(公告)日: 2002-07-24
发明(设计)人: 宫永昭治;大谷久;寺本聪 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张志醒
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 薄膜晶体管 器件
【权利要求书】:

1.一种具有至少一个薄膜晶体管的器件,所述薄膜晶体管包括:

在一个绝缘表面上的含硅半导体膜;

在所述半导体膜中的一对具有一种导电类型的杂质区;和

至少一个含金属材料的部分,所述含金属材料直接加到所述半导体膜中,该部分至少形成在所述一对杂质区的一个中,

其中所述含金属材料选自以下一组材料:B、Al、Ga、In、Tl、Sc、Y、镧系元素、C、Sn、Pb、Ti、Zr、Hf、N、P、As、Sb、Bi、V、Nb、Zn和Ta。

2.如权利要求1的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管与一个有源矩阵液晶显示器的象素电极连接。

3.如权利要求1的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管构成一个有源矩阵液晶显示器件的驱动电路。

4.如权利要求1的器件,其特征在于,该器件是一个图象感测器。

5.如权利要求1的器件,其特征在于,所述含金属材料的浓度是2×1017至2×1019原子/cm3

6.一种具有至少一个薄膜晶体管的器件,所述薄膜晶体管包括:

在一个绝缘表面上的含硅半导体膜;

在所述半导体膜中的一对具有一种导电类型的杂质区;和

至少一个含锗材料的部分,所述含锗材料直接加到所述半导体膜中,该部分至少形成在所述一对杂质区的一个中。

7.如权利要求6的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管与一个有源矩阵液晶显示器的象素电极连接。

8.如权利要6的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管构成一个有源矩阵液晶显示器件的驱动电路。

9.如权利要求6的器件,其特征在于,该器件是一个图象感测器。

10.如权利要求6的器件,其特征在于,所述含锗材料的浓度是2×1017至2×1019原子/cm3

11.一种具有至少一个薄膜晶体管的器件,所述薄膜晶体管包括:

在一个绝缘表面上的含硅半导体膜;

在所述半导体膜中的一对具有一种导电类型的杂质区;

至少一个含金属材料的部分,所述含金属材料直接加到所述半导体膜中,该部分至少形成在所述一对杂质区的一个中;和

一条导线,与所述一对杂质区至少之一电连接,

其中所述含金属材料选自以下一组材料:B、Al、Ga、In、Tl、Sc、Y、镧系元素、C、Sn、Pb、Ti、Zr、Hf、N、P、As、Sb、Bi、V、Nb、Zn和Ta。

12.如权利要求11的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管与一个有源矩阵液晶显示器的象素电极连接。

13.如权利要求11的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管构成一个有源矩阵液晶显示器件的驱动电路。

14.如权利要求11的器件,其特征在于,该器件是一个图象感测器。

15.如权利要求11的器件,其特征在于,所述含金属材料的浓度是2×1017至2×1019原子/cm3

16.一种具有至少一个薄膜晶体管的器件,所述薄膜晶体管包括:

在一个绝缘表面上的含硅半导体膜;

在所述半导体膜中的一对具有一种导电类型的杂质区;和

至少一个含锗材料的部分,所述含锗材料直接加到所述半导体膜中,该部分至少形成在所述一对杂质区的一个中;和

一条导线,与所述一对杂质区至少之一电连接。

17.如权利要求16的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管与一个有源矩阵液晶显示器的象素电极连接。

18.如权利要求16的器件,其特征在于,所述薄膜晶体管构成一个有源矩阵液晶显示器件的驱动电路。

19.如权利要求16的器件,其特征在于,该器件是一个图象感测器。

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