专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种129-CN201810192726.8有效
  • 周斌权;房建成;陈琳琳;吴文峰;王婧 - 北京航空航天大学
  • 2018-03-09 - 2021-08-31 - G01C19/60
  • 本发明公开了一种129Xe‑Rb自旋交换速率快速测量方法,适用于核磁共振陀螺仪,该方法首先加热碱金属气室,z轴施加一个直流磁场,x轴施加一个非共振磁场,得到ZI锁相放大器的输出电压信号与x轴磁场幅值的比例系数;接着关闭非共振磁场,x轴施加一个共振磁场,通过ZI锁相放大器完成信号的输出;最后计算129Xe‑Rb自旋交换速率本发明方法填补现有技术无快速有效的129Xe‑Rb自旋交换速率测量方法的空白,并为核子极化率的提升提供保障。
  • 一种basesup129
  • [发明专利]注射成形机的测量控制方法-CN200710148935.4有效
  • 盐泽文男;池田铁雄;宮入一喜;箱田隆;樱田诚一 - 日精树脂工业株式会社
  • 2007-09-12 - 2008-03-19 - B29C45/76
  • 与测量结束位置Xe对应的结束目标位置Xes、使螺钉2旋转的旋转速率图案Ar和螺钉2后退的假定后退速率图案Ab被事先设定,在测量时使螺钉2旋转停在结束目标位置Xes上的剩余旋转速率图案Ar通过基于在每个指定时间间隔Ts检测的螺钉位置X的计算被预测,基于此螺钉2被控制为旋转到测量结束位置Xe,使螺钉2后退停在结束目标位置Xe上的剩余后退速率图案Ab基于在每个指定的时间间隔Ts检测的螺钉2后退速率Vd,基于此螺钉2被控制为后退到测量结束位置Xe,螺钉2的旋转和后退停止,随后螺钉2在被位置控制到测量结束位置Xe的同时被控制为以预先设定的恒定的旋转量Rc反向旋转。
  • 注射成形测量控制方法
  • [发明专利]半导体存储装置-CN95120239.1无效
  • 大脇幸人;福田良 - 株式会社东芝
  • 1995-12-07 - 2002-08-07 - G11C11/34
  • 其具有按XY方向配置的存储单元阵列19,备有在由X地址及Y地址定义的存储单元中存储缺陷存储单元的X地址的缺陷位地址存储器11、将从外部地址总线13输入的地址与来自缺陷位地址存储器11的地址进行比较的地址比较器14、以及当用该比较器14判断出从外部地址总线13输入了与缺陷位地址相同的X地址Xe时在内部地址总线17上产生Xe+m的内部地址运算器16。
  • 半导体存储装置
  • [发明专利]从液态氧-塔料中提取氙及可能时也提取氪的方法-CN99806566.8无效
  • 埃里希·哈恩;威廉·罗德;于尔根·福伊特 - 林德气体股份公司
  • 1999-05-05 - 2004-01-28 - F25J3/04
  • 本发明涉及用于从液态氧(LOX)-塔料中提取氙和可能时氪的方法,LOX塔料在低温空气分离设备(LZA)中,在精馏空气时,大多作为低压塔的底池产品附带产生,也就是说,其中含有氙(Xe)、氪(Kr)和极小浓度的碳氢化合物(CxHy)以及大约99mol%的氧(O2),其中,将LOX塔料送入到一个第1塔中,将LOX塔料中的氧用一种惰性气体在尽可能大的程度上分离出来,并从顶部气体中获得,而带有少量O2和几乎所有的CxHy、Kr和Xe的惰性气体从第1塔的底池中液态脱出,按照本发明,在没有过去的催化和/或吸附去除CxHy的情况下,该排出液体被送入一个到第2塔中,Kr馏出物作为第2塔的顶部气体被获取,Xe馏出物由第2塔的底池脱出。此方法可被用在设在一个空气分离系统(LZA)中的Xe和/或Kr提取装置中。该装置可安置在一个可运输的集装箱内。
  • 液态塔料中提取可能方法
  • [发明专利]涂敷膜的宽度的检查方法以及用于该检查方法的检查装置-CN200980154294.0无效
  • 水口晓夫 - 丰田自动车株式会社
  • 2009-01-15 - 2011-12-07 - B05D3/00
  • 20)的与该长度方向交叉的横方向的宽度W1的方法,包括以下工序:计测涂敷膜(20)在横方向上的厚度轮廓的工序;基于计测出的厚度轮廓,在涂敷膜(20)的横方向的两个端部附近区域(24a、24b)作成距离X与厚度Y的函数的近似曲线L1、L2的工序;以及基于所得到的近似曲线L1、L2和距离预先设定的基准点Y0的厚度阈值Yt,将根据一个端部附近区域(24a)的近似曲线L1求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe1、和根据另一个端部附近区域(24b)的近似曲线L2求出的与厚度阈值Yt对应的距离Xe2看作横方向的两个端部,并计算该Xe1与Xe2之差Xe1-Xe2的绝对值来作为预定的计测点的涂敷膜(20)的横方向的宽度W1的工序。
  • 涂敷膜宽度检查方法以及用于装置

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