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[发明专利]一种光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺-CN201810572360.7在审
发明人：胡文波;沈齐行;胡磊 -专利权人：天通（嘉兴）新材料有限公司
申请日： 2018-06-06 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C23G1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺，包括以下步骤：1、将需要进行表面镀层去除处理的光学镀膜铜治具放入氟化氢铵溶液中浸泡一断时间，使其表面镀膜层脆化脱落；2、取出光学镀膜铜治具清洗后风干；3、风干后的光学镀膜铜治具利用喷砂工艺进行处理，去除残留在光学镀膜铜治具上的表面镀膜层。本发明的光学镀膜铜治具表面镀层去除处理工艺，能够有效的去除光学镀膜铜治具表面的镀膜层，同时减少对光学镀膜铜治具的破坏，提高了光学镀膜铜治具的使用寿命。
光学镀膜治具去除治具表面处理工艺镀层表面镀膜风干氟化氢铵溶液表面镀层喷砂工艺使用寿命镀膜层脆化放入浸泡清洗取出残留

[发明专利]一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及其加工方法-CN201910374092.2在审
发明人：杨馥羽;李中泉;张沛 -专利权人：中国科学院高能物理研究所
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及其加工方法。本发明的样片腔装置，其特征在于，包括样片腔和多个铜样片，所述样片腔与目标铜腔的形状和尺寸相同；各所述铜样片分别固定在所述样片腔内设定关注的部位。本发明首先将样片腔装置放置于真空腔室内，采用磁控溅射镀膜方法在样片腔装置上镀铌；然后根据固定在所述样片腔装置内的铜样片镀膜确定目标铜腔内表面各位置处对应的镀膜信息，再结合所述镀膜信息优化镀膜参数。本发明通过该样片腔装置进行镀膜实验并对样片进行表征分析，能够优化各个位置处的镀膜参数，为后续整个目标铜腔基底的镀膜提供经验指导。
镀膜铜腔真空磁控溅射镀膜镀膜参数位置处磁控溅射镀膜表征分析信息优化内表面真空腔基底腔内加工室内优化

[发明专利]铜箔及其制备方法、集流体、电极片、二次电池及用电装置-CN202310684510.4在审
发明人：张迅;易伟华;李景艳;阳威;彭顺明 -专利权人：江西沃格光电股份有限公司
申请日： 2023-06-09 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01M4/66 文献下载
摘要：该铜箔包括基材、金属镀膜及表面铜层。其中，金属镀膜设于基材的至少一个表面上。表面铜层设于金属镀膜远离基材的表面上。其中，在基材的表面上，金属镀膜包括层叠设置的铜合金镀膜、纯铜镀膜及铜镍镀膜。铜合金镀膜通过脉冲直流电源溅射制备。通过脉冲直流电源溅射制备的铜合金镀膜具有较好的表面附着力，与基材表面的结合力较佳；铜镍镀膜具有较好的抗氧化性，能够较好地避免金属镀膜氧化，故而该铜箔整体的方阻较小且方阻均一性较好，同时与基材的结合力较好
铜箔及其制备方法流体电极二次电池用电装置

[实用新型]一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及镀膜参数优化系统-CN201920639426.X有效
发明人：杨馥羽;李中泉;张沛 -专利权人：中国科学院高能物理研究所
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于真空磁控溅射镀膜的样片腔装置及镀膜参数优化系统。本实用新型的样片腔装置，其特征在于，包括样片腔和多个铜样片，所述样片腔与目标铜腔的形状和尺寸相同；各所述铜样片分别固定在所述样片腔内设定关注的部位。本实用新型首先将样片腔装置放置于真空腔室内，采用磁控溅射镀膜方法在样片腔装置上镀铌；然后根据固定在所述样片腔装置内的铜样片镀膜确定目标铜腔内表面各位置处对应的镀膜信息，再结合所述镀膜信息优化镀膜参数。本实用新型通过该样片腔装置进行镀膜实验并对样片进行表征分析，能够优化各个位置处的镀膜参数，为后续整个目标铜腔基底的镀膜提供经验指导。
一种用于真空磁控溅射镀膜样片装置参数优化系统

[发明专利]电解剥离方法-CN200410086029.2有效
发明人：荻原阳子;中沢昌夫 -专利权人：新光电气工业株式会社
申请日： 2004-10-22 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C25F5/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种电解剥离方法，该方法包括电解剥离：从银镀膜上暴露出的铜镀膜，所述银镀膜部分覆盖了在元件的整个表面上形成的铜镀膜；和利用铜镀膜作为阳极，形成于铜镀膜的暴露部分之上并且具有小于银镀膜厚度的渗漏出的银，其中，使用不含氰化合物的铜电解剥离液进行电解剥离，并且该电解剥离液包括能与银形成比银和氰的络合离子更容易解离的络合离子的化合物；并且其中，银和铜沉积在与阳极成反电极的阴极上，并且制成该阴极的金属在电解剥离液中的化学性质稳定
电解剥离方法

[发明专利]镀铜方法-CN200810178581.2有效
发明人：林慎二郎;泷口久范 -专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请日： 2008-08-08 - 公布日： 2009-05-20 - 主分类号： C25D5/34 文献下载
摘要：本发明提供一种镀铜的方法，使用该方法来沉淀铜镀膜，即使是形成相对薄的铜镀膜，该铜镀膜也都是均匀且平滑的，并具有优异的镜面光泽。在该镀铜方法中，将含有溴化物复合离子的预处理溶液与待镀物进行接触，通过使用铜镀液来电镀铜，使铜沉淀。
镀铜方法

[发明专利]抗菌镀膜件及其制备方法-CN201110203618.4无效
发明人：张新倍;陈文荣;陈正士;李聪 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-07-20 - 公布日： 2013-01-23 - 主分类号： B32B9/04 文献下载
摘要：本发明提供一种抗菌镀膜件，其包括基材，形成于基材表面的铜层，形成于铜层表面的铜锌复合层及形成于铜锌复合层表面的氧化锌层。所述铜层与基材附着牢固；所述氧化锌层对铜锌复合层中铜和锌离子的快速溶出起到阻碍作用，从而可缓释铜和锌离子的溶出，使铜锌复合层具有长效的抗菌效果，相应延长了抗菌镀膜件的使用寿命；且在有光照的条件下，所述氧化锌层可进一步加强所述抗菌镀膜件的抗菌效果此外，本发明还提供一种所述抗菌镀膜件的制备方法。
抗菌镀膜及其制备方法

[发明专利]基于磁控溅射与蒸发的超薄薄膜双面镀膜方法及设备-CN202210862534.X在审
发明人：朱建明 -专利权人：肇庆市科润真空设备有限公司
申请日： 2022-07-21 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明公开一种基于磁控溅射与蒸发的超薄薄膜双面镀膜方法及设备，其方法是利用磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的结合，在同一镀膜区内对基材的两面进行交替的镀膜和冷却，其中磁控溅射镀膜可在基材的表面形成具有良好附着力的铜膜过渡层，蒸发镀膜可在铜膜过渡层上快速沉积形成厚度较大的铜膜层。其设备包括镀膜区，镀膜区中设有至少一组镀膜辊组，镀膜辊组的外侧形成磁控溅射区域和蒸发镀膜区域，各磁控溅射镀膜区域中设有若干旋转磁控靶，各蒸发镀膜区域中设有蒸发源。本发明可有效改善超薄薄膜变形的情况，并可大幅度提高镀膜效率和镀膜产量，同时镀膜设备整体结构紧凑、占地面积小，设备制造成本也较低。
基于磁控溅射蒸发超薄薄膜双面镀膜方法设备

[发明专利]抗菌镀膜件及其制备方法-CN201110073107.5有效
发明人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;胡智杰 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-03-25 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种具有持久抗菌效果且适用多种环境的抗菌镀膜件，其包括基材，形成于基材表面的若干二氧化钛层和若干金属铜层，该若干二氧化钛层和若干金属铜层交替排布。所述二氧化钛层对金属铜层中铜离子的快速溶出起到阻碍作用，从而可缓释铜离子的溶出，使金属铜层具有长效的抗菌效果；同时所述抗菌镀膜件适用于多种环境，在没有光照的条件下，抗菌镀膜件主要依靠金属铜层起到抗菌效果，在光照的条件下，二氧化钛层可发挥其抗菌效果，使抗菌镀膜件具有更强的抗菌效果。此外，本发明还提供一种所述抗菌镀膜件的制备方法。
抗菌镀膜及其制备方法

[发明专利]铜-锡合金镀膜、非氰系铜-锡合金镀液以及采用该镀液的镀覆方法-CN200810145958.4有效
发明人：西村敏行;河本和彦;清水刚 -专利权人：株式会社清水
申请日： 2008-08-14 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： C25D3/58 文献下载
摘要：本发明提供一种具有与镍镀膜同等程度的白色外观以及镀膜特性的铜-锡合金镀膜、以及用于形成该铜-锡合金镀膜的非氰系铜-锡合金镀液。由Cu₆Sn₅的晶体构成铜-锡合金镀膜，将锡的含有率设定为40体积％～50体积％，将铜的含有率设定为50体积％～60体积％。该铜-锡合金镀膜使用下述的非氰系铜-锡合金镀液来形成，该非氰系铜-锡合金镀液含有以2价锡离子换算计为2g/L～20g/L的2价锡盐、以2价铜离子换算计为5g/L～30g/L的2价铜盐、50g/L～400g
合金镀膜非氰系铜以及采用镀覆方法

[发明专利]电弧焊方法及实芯焊丝-CN201880039116.2在审
发明人：木梨光;横田泰之;佐藤浩二 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2020-02-04 - 主分类号： B23K35/02 文献下载
摘要：本发明的一个方式涉及一种电弧焊方法，其特征在于，使用含有Ar的气体和实芯焊丝(10)进行焊接，所述实芯焊丝(10)具备钢焊芯(11)及形成于该钢焊芯(11)的表面的铜镀膜(12)，铜镀膜(12)的平均晶粒直径为另外，还涉及实芯焊丝(10)，其具备钢焊芯(11)及在该钢焊芯(11)的表面形成的铜镀膜(12)，铜镀膜(12)的平均晶粒直径为600nm以下。
钢焊芯铜镀膜实芯焊丝平均晶粒表面形成电弧焊焊接

[实用新型]一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构-CN202222606864.0有效
发明人：邹杨;孙蕾;邹松东 -专利权人：洛阳奥尔材料科技有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开了一种在铜加工件内表面真空镀防腐膜的结构，包括真空镀膜室，所述真空镀膜室的内部安装有底座，所述底座上设置有溅射阴极，所述溅射阴极的外侧套设有铜件，所述铜件的底部与底座接触，所述真空镀膜室的左侧安装有真空抽气系统，所述真空镀膜室的上安装有加热烘烤系统。该实用新型，通过二极溅射阴极伸入铜加工件内表面，并通过调节氩气流量计大小，调节电源功率大小，从而能均匀的将耐腐蚀材料溅射到铜加工件内表面，稳定性更佳。
一种工件表面真空防腐结构

[发明专利]抗菌镀膜件及其制备方法-CN201110068542.9无效
发明人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明提供一种具有持久抗菌效果的抗菌镀膜件，其包括基材、形成于基材表面的打底层，该抗菌镀膜件还包括形成于打底层表面的若干镍铬氮层和若干铜铈合金层，该若干镍铬氮层和若干铜铈合金层交替排布。本发明所述抗菌镀膜件利用镍铬氮层疏松多孔的结构，使铜铈合金层的部分嵌入到该镍铬氮层中，对铜铈合金层中铜和铈离子的快速溶出起到阻碍作用，从而可缓释铜和铈离子的溶出，使铜铈合金层具有长效的抗菌效果。此外，本发明还提供一种所述抗菌镀膜件的制备方法。
抗菌镀膜及其制备方法

[发明专利]抗菌镀膜件及其制备方法-CN201110068541.4无效
发明人：张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;李聪 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2011-03-22 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明提供一种具有持久抗菌效果的抗菌镀膜件，其包括基材、形成于基材表面的打底层，该抗菌镀膜件还包括形成于打底层表面的若干镍铬氮层和若干铜锌合金层，该若干镍铬氮层和若干铜锌合金层交替排布。本发明所述抗菌镀膜件利用镍铬氮层疏松多孔的结构，使铜锌合金层的部分嵌入到该镍铬氮层中，对铜锌合金层中铜和锌离子的快速溶出起到阻碍作用，从而可缓释铜和锌离子的溶出，使铜锌合金层具有长效的抗菌效果。此外，本发明还提供一种所述抗菌镀膜件的制备方法。
抗菌镀膜及其制备方法

[发明专利]金属玻璃镀膜在铝合金耐疲劳性质提升的应用-CN201110454052.2有效
发明人：郑宪清;蔡佩桦;李嘉彬;张益综;符志强;朱瑾 -专利权人：中央大学
申请日： 2011-12-30 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： C22C45/10 文献下载
摘要：一种镀有锆基或锆铜基金属玻璃合金镀膜的基板、及其制备方法。本发明的镀有锆基金属玻璃镀膜的基板包括：铝合金基板；以及锆基金属玻璃镀膜，配置于该基板的表面，且该锆基金属玻璃镀膜的组成如式1所示，[式1]：(ZraCubNicAld)100-xSix，其中，45＝＜本发明的镀有锆铜基金属玻璃镀膜的基板包括：铝合金基板；以及锆铜基金属玻璃镀膜，配置于基板的表面，且该锆铜基金属玻璃镀膜的组成如式2所示，[式2]：(ZreCufAlgAgh)100-ySiy，35＝＜e
金属玻璃镀膜铝合金疲劳性质提升应用

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