专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种氧化物超晶格薄膜忆阻器及其制备方法-CN202211359763.6在审
  • 岳建岭;杨泽欧;胡海龙;黄小忠 - 中南大学
  • 2022-11-02 - 2022-12-23 - H01L45/00
  • 本发明提供一种氧化物超晶格薄膜忆阻器及其制备方法,其制备方法包括如下步骤:以掺单晶衬底作为底电极;在掺单晶衬底表面交替沉积层和另一类氧化物膜层,制备得到氧化物超晶格薄膜作为存储介质层,其中,另一类氧化物膜层选用掺钇氧化锆、钴镧、或铁铋中的一种;在步骤S2得到的镀有存储介质层的基片表面再沉积金属薄膜作为顶电极,得到含有底电极∥STO氧化物超晶格薄膜存储介质层∥顶电极的忆阻器。由该制备方法制备得到的氧化物超晶格薄膜忆阻器可形成单晶或晶体完整性较高的超晶格薄膜,忆阻器具备低的操作电压和高的组态稳定性。
  • 一种钛酸锶基氧化物晶格薄膜忆阻器及其制备方法
  • [发明专利]一种酸钠钾-锰陶瓷及其制备方法-CN201110425711.X无效
  • 黄延民;刘来君;史丹平;吴爽爽;郑少英 - 桂林理工大学
  • 2011-12-16 - 2012-07-04 - C04B35/495
  • 本发明公开了一种酸钠钾-锰陶瓷及其制备方法。酸钠钾-锰陶瓷的组成式为:(1-x)(K0.5Na0.5)NbO3-xSrMnO3,其中0.01≤x≤0.2,式中x表示相应的组分的摩尔数。采用矿型的锰(SrMnO3)作为烧结助剂,可以在晶界形成液相,加速了传质过程,得到了致密酸钠钾-锰[(1-x)K0.5Na0.5NbO3-xSrMnO3]陶瓷,同时也提高了其压电常数。本发明采用将原料球磨4~24小时,然后以3~5℃/min的升温速率升温至800~1000℃预烧2~8小时;以4~8℃/min的升温速率升温至1000~1200℃烧结2~8小时得到酸钠钾-锰[(1-本发明通过掺杂锰助烧剂后的酸钠钾无铅压电陶瓷,其压电常数从纯的酸钠钾的118pC/N提高到250pC/N。
  • 一种铌酸钠钾锰酸锶陶瓷及其制备方法
  • [实用新型]钡复合微波介质陶瓷片-CN201120363110.6有效
  • 单连伟 - 哈尔滨理工大学
  • 2011-09-26 - 2012-06-06 - B32B18/00
  • 钡复合微波介质陶瓷片。微波介质陶瓷广泛应用于卫星、雷达、移动通信等众多领域,20世纪后期,微电子信息处理技术和电子信息技术获得了快速的发展,这极大促进了微波移动通信技术的发展需求。一种钡复合微波介质陶瓷片,其组成包括:钡膜(1)、钡膜(2),所述的钡膜上复合钡膜,然后再复合钡膜,再复合钡膜,如此反复,将钡膜和钡膜交替复合成层叠结构
  • 铌镁酸钡钛酸锶钡复合微波介质陶瓷
  • [发明专利]基于掺阻变薄膜的形变应力传感器-CN201810315148.2有效
  • 陆小力;王贺;史泽堃;王涛;姚会娟;张进成;郝跃 - 西安电子科技大学
  • 2018-04-10 - 2020-02-21 - H01L29/84
  • 本发明公开了一种基于掺阻变薄膜的形变应力传感器的制作方法,主要解决现有形变应力传感器功耗大且不能弯曲的问题。其技术方案是:1.使用脉冲激光沉积技术,在镧锰氧做牺牲层的衬底上生长掺薄膜;2.在掺薄膜表面旋涂聚甲基丙烯甲酯,用碘化钾溶液除去镧锰氧薄膜;3.将掺薄膜转移到后续所需的柔性导电衬底上,在丙酮中浸泡除去聚甲基丙烯甲酯;4.在掺薄膜表面加电极,完成形变应力传感器的制作。本发明采用掺阻变薄膜作为传感材料,耗能小,且提高了应力传感器的灵敏度,实现了传感器的弯曲,满足柔性电子设备的要求,可用于半导体器件的制备。
  • 基于掺铌钛酸锶阻变薄膜形变应力传感器
  • [发明专利]一种稀土镍氧化物多晶薄膜材料的制备方法-CN201611141905.6在审
  • 陈吉堃;姜勇;徐晓光;苗君;吴勇;孟康康 - 北京科技大学
  • 2016-12-12 - 2017-03-08 - C23C14/28
  • 一种稀土镍氧化物多晶薄膜材料的制备方法,属于无机非金属薄膜材料领域,本发明是在衬底材料表面生长具有与稀土镍矿氧化物材料晶格参数相近的氧化物材料缓冲层;在缓冲层表面进一步利用真空沉积法沉积稀土镍矿氧化物薄膜所述稀土镍矿氧化物材料的晶体结构为ABO3的矿结构ReNiO3Re位为单一稀土元素或多种稀土元素的组合;所述缓冲层材料的组分优选铷氧、、镧掺杂、钕掺杂、钛酸钡、。本发明提供了一种简便高效制备稀土镍矿氧化物多晶薄膜材料的方法,所制备的薄膜材料具有优异的温致与氢致性能,可以进一步应用于功能电子器件、燃料电池、红外探测器件等领域。
  • 一种稀土氧化物多晶薄膜材料制备方法

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