专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铁电体记录介质及铁电体存储装置-CN202111609708.3在审
  • 柳泽正明 - 昭和电工株式会社
  • 2021-12-27 - 2022-07-01 - G11B9/02
  • 本发明的课题在于提供一种铁电体记录介质,其能够将以高记录密度存储于铁电体记录介质的信息高速地读入,能够单位存储容量中的小型化且抑制能量消耗量的增大。本发明涉及的铁电体记录介质为在基板上,依次具备电极层、铁电体记录层、保护层的铁电体记录介质,上述铁电体记录层包含铁电体层,构成上述铁电体层的材料所具有的晶格常数与构成上述电极层或上述基板的材料所具有的晶格常数在
  • 铁电体记录介质存储装置
  • [发明专利]铁电体存储器元件及其制造方法-CN200510056930.X有效
  • 田村博明;田川辉男 - 精工爱普生株式会社
  • 2005-03-23 - 2005-09-28 - H01L27/10
  • 本发明的目的在于提供一种铁电体存储器元件,其在电容器制造阶段中,可抑制在上电极和铁电体的界面上产生损伤。本发明的目的还在于提供一种铁电体存储器元件的制造方法,其在电容器制造阶段中,抑制在上电极和铁电体的界面上产生损伤。本发明的铁电体存储器元件,包括:基板(100);铁电体电容器(130),其形成在基板(100)的上方,包括下部电极(120)、铁电体膜(105)以及上部电极(106);氢屏障膜(107、108),覆盖铁电体电容器氢屏障膜(107、108)中设置在上部电极(106)的上方部分的膜厚,比氢屏障膜(107、108)中设置在铁电体电容器(130)的侧壁部分的膜厚厚。
  • 铁电体存储器元件及其制造方法
  • [发明专利]半导体存储装置及其驱动方法-CN02108021.6无效
  • 嶋田恭博;加藤刚久;山田隆善 - 松下电器产业株式会社
  • 2002-03-25 - 2002-11-13 - H01L27/04
  • 一种半导体存储装置及其驱动方法,半导体存储装置具有铁电体电容器,即使由于电子或空穴的注入使施加在铁电体电容器上的电位差消失,也能够读出铁电体电容器所保持的数据。半导体存储装置的结构是由源区(101)、漏区(102)、沟道区(103)、栅绝缘膜(104)及浮置栅电极(105)构成场效应晶体管,通过绝缘膜在该场效应晶体管上设置铁电体电容器(113),铁电体电容器由铁电体膜将铁电体膜(110)的极化方向下向、且铁电体膜(110)具有几乎饱和极化值的第1状态作为数据“1”写入的同时,将铁电体膜的极化方向下向、且铁电体膜(110)具有几乎为零的极化值的第2状态作为数据“0”写入
  • 半导体存储装置及其驱动方法
  • [发明专利]铁电体矫顽场强度的测量方法及其系统-CN200310121537.5无效
  • 潘潮;陈守六;解宝兴;金亨焕;易晓星;章力旺 - 中国科学院声学研究所
  • 2003-12-19 - 2005-06-22 - G01R31/00
  • 本发明涉及一种铁电体矫顽场强度的测量方法及其系统,该方法根据当外力在一定范围内,极化过的铁电体样品所受到的外力与所得到的压电电压成正比的关系,在极化后的铁电体试样施加一个低频正弦波交变力,以在铁电体试样两端产生出与低频正弦波交变力相对应的低频交变压电电压;再在该铁电体试样上施加一个直流高压电场,从小到大调节直流高压电场直至铁电体样品的低频交变压电电压为零,该直流高压电场的大小就是铁电体样品的矫顽场强度;所述的直流高压电场由直流高压的电压除以铁电体试样的厚度得到该方法通过测量极化过的铁电体试样受到外力作用时自身产生出的压电电压在附加直流高压电场作用下的变化来直接得到其矫顽场强度。
  • 铁电体矫顽场强度测量方法及其系统

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